Pat

J-GLOBAL ID：200903003652822732

分子ふるい連続合成用プロセスにおける粒子サイズ及び粒子サイズ分布の制御方法

Inventor： メドハット ケイ.タノウス ,  ソヌー.マルチオレット ,  ライル イー.モンソン
Applicant, Patent owner： ユーオーピー エルエルシー
Agent (1)： 佐田 守雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999368813
Publication number (International publication number)：2000233921
Application date： Dec. 27, 1999
Publication date： Aug. 29, 2000
Summary：

【要約】【課題】 分子ふるいを連続的に調製するばかりでなく、粒子サイズと粒子サイズ分布の両方も制御する。【解決手段】 無水ベースでrR2O:(SixAlyPz)(Rは少なくともひとつの鋳型剤、“r”,“x”,“y”,“z”はそれぞれR,Si,Al及びPのモル分率)の実験式で示される分子ふるいを、望ましい成分の反応性供給源を構造指示剤と共に連続的に連続結晶化反応器内に付加し、段階間逆混合を行うか、あるいは段階数を調製して粒子サイズを調節することによって連続的に合成する。粒子サイズ分布を制御するためのひとつの好ましい方法は生成物を少なくとも2つの流れに分割して、各流れを異なった強度で運転される湿潤粉砕装置に流し込み、その後再度混ぜ合わせて、少なくとも2つのモードを有する分布を得る。

Claim (excerpt)：

分子ふるい連続合成中の粒子サイズ及び/又は粒子サイズ分布を制御するための方法において、上記分子ふるいは無水ベースでrR2O:(SixAlyPz)O2の実験式を有しており、ここでRは少なくともひとつの鋳型剤であり“r”は0〜1.0の範囲の値を有しており、“x”,“y”及び“z”はそれぞれケイ素、アルミニウム、及びリンのモル分率であり、“x”は0〜1.0の範囲の値を有し、“y”は0〜0.6の範囲の値を有し、“Z”は0〜0.545の範囲の値を有し、x+y+z=1,x+y>0、並びにx>0及びy=0の場合、z=0であり、該方法がa)Rが少なくともひとつの構造指示剤であり、“a”は0〜5(ただし、0は除く)の範囲の値を有し、“b”が0〜1.0までの範囲の値を有し、“c”が0〜1.0までの範囲の値を有し、“d”が0〜1.0の範囲の値を有し、“e”が0〜500(ただし、0は除く)の範囲の値を有し、b+c+d=1,b+c>0並びに、b>0及びc=0の場合にd=0であるとして、aR2O:(SibAlcPd):eH2Oのモル比で表される実験式を有する反応混合物を少なくとも2段階で構成される連続結晶化反応器内に投入する工程と、b)反応混合物を該連続反応器を通じて反応条件下で流動させ、それによって分子ふるいを結晶させる工程と、c)段階間で有効な程度の逆混合を行うか、あるいは上記反応器内の段階の数を調節することで上記分子ふるいの粒子サイズ及び粒子サイズ分布を制御する工程と、そしてd)分子ふるいを回収する工程、とで構成される方法。

IPC (7)：

C01B 39/54 ,  B01D 9/02 601 ,  B01D 9/02 619 ,  B01D 9/02 620 ,  B02C 17/00 ,  C01B 39/10 ,  G05D 5/04

FI (7)：

C01B 39/54 ,  B01D 9/02 601 C ,  B01D 9/02 619 Z ,  B01D 9/02 620 ,  B02C 17/00 A ,  C01B 39/10 ,  G05D 5/04