窒化アルミニウム焼結体およびそれを用いた基板載置装置

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007240592
Publication number (International publication number)：2009067662
Application date： Sep. 18, 2007
Publication date： Apr. 02, 2009
Summary：

【課題】高温における全放射率が高く、基板載置装置に適した窒化アルミニウム焼結体を提供し、また、高温域においても充分な熱応答性を有する低パーティクル性の基板載置装置を提供する。【解決手段】200°Cにおける全放射率が60%以上であることを特徴とする窒化アルミニウム焼結体を用いた基板載置装置。発熱抵抗体を備える基体と、前記基体の表面に形成された突起部と、を具備する基板載置装置であって、前記基体の200°Cにおける全放射率が60%以上である。【選択図】図1

Claim 1：

200°Cにおける全放射率が60%以上であることを特徴とする窒化アルミニウム焼結体

IPC (3)：

C04B 35/581 , H01L 21/02 , C04B 41/91

FI (3)：

C04B35/58 104Y , H01L21/02 Z , C04B41/91 Z

F-Term (24)：

4G001BA09 , 4G001BA36 , 4G001BB09 , 4G001BB36 , 4G001BC23 , 4G001BC24 , 4G001BC52 , 4G001BC54 , 4G001BD03 , 4G001BD33 , 4G001BD38 , 4G001BE21 , 4G001BE33 , 4G001BE35 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031HA02 , 5F031HA05 , 5F031HA16 , 5F031HA37 , 5F031HA38 , 5F031NA05 , 5F031PA11 , 5F031PA26

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

静電チャック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-064122 Applicant：富士通株式会社, 富士通ヴィエルエスアイ株式会社
加熱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-093180 Applicant：日本碍子株式会社
ウエハ処理装置、ウエハステージおよびウエハ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-052576 Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ

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Cited by examiner (5)

加熱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-093180 Applicant：日本碍子株式会社
ウエハ処理装置、ウエハステージおよびウエハ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-052576 Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ
静電チャック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-016260 Applicant：株式会社日本セラテック

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