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J-GLOBAL ID：200903003692333955

イオン性化合物の製造方法

Inventor：
大月 正珠

About 大月 正珠

, 
菅野 裕士

About 菅野 裕士


Applicant, Patent owner：
株式会社ブリヂストン

About 株式会社ブリヂストン


Agent (4)： 杉村 興作 ,  藤谷 史朗 ,  来間 清志 ,  冨田 和幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006137926
Publication number (International publication number)：2007153867
Application date： May. 17, 2006
Publication date： Jun. 21, 2007
Summary：
【課題】燃焼の危険性が低い新規イオン性化合物を安定的に製造することが可能な方法を提供する。【解決手段】水相及び有機相からなる二相系に、(NPR12)n [式中、R1は、それぞれ独立してハロゲン元素又は一価の置換基で、少なくとも一つのR1は塩素であり;nは3〜15を表す]で表される環状ホスファゼン化合物と、NR23 [式中、R2は、それぞれ独立して一価の置換基又は水素で、但し、少なくとも一つのR2は水素ではなく、また、R2は互いに結合して環を形成してもよい]で表されるアミンとを加え、反応させて、(NPR32)n [式中、R3は、それぞれ独立してハロゲン元素又は一価の置換基で、少なくとも一つのR3は、-N+R23Cl- (式中、R2は上記と同義である)で表されるイオン性置換基であり;nは上記と同義である]で表されるイオン性化合物を生成させる。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
水相及び有機相からなる二相系に、下記一般式(I): (NPR12)n ・・・ (I) [式中、R1は、それぞれ独立してハロゲン元素又は一価の置換基で、少なくとも一つのR1は塩素であり;nは3〜15を表す]で表される環状ホスファゼン化合物と、下記一般式(II): NR23 ・・・ (II) [式中、R2は、それぞれ独立して一価の置換基又は水素で、但し、少なくとも一つのR2は水素ではなく、また、R2は互いに結合して環を形成してもよい]で表されるアミンとを加え、前記一般式(I)で表される環状ホスファゼン化合物と前記一般式(II)で表されるアミンとを反応させて、下記一般式(III): (NPR32)n ・・・ (III) [式中、R3は、それぞれ独立してハロゲン元素又は一価の置換基で、少なくとも一つのR3は、下記一般式(IV): -N+R23Cl- ・・・ (IV) (式中、R2は上記と同義である)で表されるイオン性置換基であり;nは上記と同義である]で表されるイオン性化合物を生成させる工程を含むことを特徴とする上記一般式(III)で表されるイオン性化合物の製造方法。
IPC (1)：
C07F 9/659
FI (1)：
C07F9/6593
F-Term (5)：
4H050AA02 ,  4H050BB12 ,  4H050BB31 ,  4H050WA15 ,  4H050WA27
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (1)
  • 特公昭40-014600
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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