Pat
J-GLOBAL ID：200903003694302356
化学増幅型陽性フォトレジスト組成物
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
児玉 喜博
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999202428
Publication number (International publication number)：2000098615
Application date： Jul. 16, 1999
Publication date： Apr. 07, 2000
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 基板接着性、ドライエッチング耐性、解像性、耐熱性などに優れ、基板の種類にかかわらず優秀なレジストパターンを得ることができる化学増幅型陽性フォトレジスト組成物の提供。【解決手段】 反復単位が一般式(I)で、ポリスチレン標準換算重量平均分子量(Mw)が3,000〜50,000、分子量分布(Mw/Mn)が1.0〜2.0である重合体、一般式(VI)での低分子化合物、酸発生剤及び溶剤からなる組成物。R1、R2はメチル基、エチル基、t-ブチル基、アルコキシアルキル基等を示す。l、m、n、oはそれぞれ主鎖内で反復単位を示し、l+m+n+oは1であり、oの含有比は0.4〜0.6の値を有する。R3、R4は水素原子、水酸基を、R5は低級アルキル基、バイシクロ[2,2,1]ヘプタン、アダマンタン、バイシクロ[4,4,0]デカンが含まれたアルキル基を示す。
Claim (excerpt)：
反復単位が次の一般式(I)で表示され、ポリスチレン標準換算重量平均分子量(Mw)が3,000〜50,000であり、分子量分布(Mw/Mn)が1.0〜2.0である重合体、次の一般式(VI)で表示される低分子化合物、酸発生剤及び溶剤で構成される化学増幅型陽性フォトレジスト組成物。【化1】前記式において、R1、R2はメチル基、エチル基、t-ブチル基、iso-プロピル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、バイシクロ[2,2,1]ヘプタンメチル基、炭素原子が1〜10である直鎖又は側鎖アルキル基、環状アルキル基、多重環状アルキル基(bi,tricyclic)、アルコキシアルキル基を示すもので、それぞれ独立的である。l、m、n、oはそれぞれ主鎖内で反復単位を示す数であり、l+m+n+oは1であり、oの含有比は0.4〜0.6の値を有する。【化2】前記式において、R3、R4は水素原子、水酸基を示し、R5は低級アルキル基、バイシクロ[2,2,1]ヘプタン(norbornane)が含まれたアルキル基、アダマンタン(adamantane)が含まれたアルキル基、バイシクロ[4,4,0]デカン(decalin)が含まれたアルキル基を示すもので、それぞれ独立的である。
IPC (6)：
G03F 7/039 601
, C08F 22/06
, C08F 32/00
, C08G 61/08
, C08K 5/10
, C08L 65/00
G03F 7/039 601
, C08F 22/06
, C08F 32/00
, C08G 61/08
, C08K 5/10
, C08L 65/00
