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J-GLOBAL ID:200903003713016866

処理装置及び処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 井桁 貞一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994195769
Publication number (International publication number):1996060384
Application date: Aug. 19, 1994
Publication date: Mar. 05, 1996
Summary:
【要約】【目的】 少ない液量でディップ処理の精度を維持する。【構成】 1)処理液を導入して被処理基板を浸漬する処理カップと, 該処理カップ内で該被処理基板を保持し且つ上下動するチャックと, 該処理液を該処理カップより排出する手段とを有する処理装置,2)処理液を満たした処理カップ内に被処理面を上にしたまま被処理基板を浸漬した後,該被処理基板を該処理液より引き上げ, 該被処理基板上に滞留した処理液で処理を行い, 該処理カップに残った処理液を回収する処理方法。
Claim 1:
処理液を導入して被処理基板を浸漬する処理カップと, 該処理カップ内で該被処理基板を保持し且つ上下動するチャックと, 該処理液を該処理カップより排出する手段とを有することを特徴とする処理装置。
IPC (3):
C23F 1/08 102 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306
FI (3):
H01L 21/30 569 C ,  H01L 21/30 569 B ,  H01L 21/306 J

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