Pat

J-GLOBAL ID：200903003713896491

高気孔率セラミックス膜及びその製造方法

Inventor： 河合 千尋
Applicant, Patent owner： 住友電気工業株式会社
Agent (1)： 山本 正緒
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996123076
Publication number (International publication number)：1997301789
Application date： May. 17, 1996
Publication date： Nov. 25, 1997
Summary：

【要約】【課題】 高気孔率で比表面積が大きく、ガス透過性能に優れると共に、タンパクやCO2ガスなどの吸着特性に優れ、フィルターやガス分離膜及びバイオリアクターなどの触媒担体として有用なセラミックス膜を提供する。【解決手段】 無機多孔体基材上に設けられたSiO2を主成分とするウイスカー状セラミックス粒子の3次元絡み合い構造を持つセラミックス膜。このセラミックス膜は、CVD法により原料ガス中のSiとBの原子比Si/(Si+B)が0.2〜0.4の範囲、温度700〜1200°C及び圧力10〜700Torrで無機多孔体基材上に複合酸化物膜を形成した後、複合酸化物膜中のホウ素酸化物を主成分とする相を酸でエッチング除去して製造される。

Claim (excerpt)：

無機多孔体基材上に設けられ、SiO2を主成分とするウイスカー状セラミックス粒子の3次元絡み合い構造を持つことを特徴とする高気孔率セラミックス膜。

IPC (7)：

C04B 41/91 ,  B01D 71/02 500 ,  C04B 38/04 ,  C04B 41/87 ,  C23C 16/56 ,  B01J 21/08 ,  B01J 32/00

FI (7)：

C04B 41/91 B ,  B01D 71/02 500 ,  C04B 38/04 B ,  C04B 41/87 G ,  C23C 16/56 ,  B01J 21/08 ,  B01J 32/00