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J-GLOBAL ID：200903003720548652

光学素子とその製造方法及び光走査装置

Inventor：
新保 晃平

About 新保 晃平


Applicant, Patent owner：
株式会社リコー

About 株式会社リコー


Agent (1)： 園田 敏雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001047726
Publication number (International publication number)：2002248666
Application date： Feb. 23, 2001
Publication date： Sep. 03, 2002
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】像面での焦点ずれによって生じる像面湾曲を小さくする光走査装置用光学素子を、短時間、低コストで製作できるようにする。【解決手段】射出成形された光学素子を使用時と同等の光走査装置内に取り付け、像面において複数の像高における光軸方向の焦点ずれ量を測定する工程と、複数の像高に対応する特定の光学機能面上の位置を求めるレンズ高さ算出工程と、複数の像高に対応する特定の光学機能面の部分曲率と焦点ずれ量の比例係数である感度を算出する工程と、上記焦点ずれ量と上記感度より特定の光学機能面での部分曲率を求める工程と、上記レンズ高さと部分曲率を基に光学機能面の補正形状を関数モデルの係数またはマップデータとして出力する補正形状算出工程と、上記補正形状にしたがって成形用金型の特定の光学機能面に対応する鏡面駒の形状を補正加工する工程と、補正加工された鏡面駒で成形を行う工程にした。
Claim (excerpt)：
光走査光学系で使用する光学素子を成形にて作成する光学素子の製造方法において、射出成形された光学素子を使用時と同等の光走査装置内に取り付け、像面において複数の像高における光軸方向の焦点ずれ量を測定する焦点ずれ量測定工程と、複数の像高に対応する特定の光学機能面上の位置を求めるレンズ高さ算出工程と、複数の像高に対応する特定の光学機能面の部分曲率と焦点ずれ量の比例係数である感度を算出する感度算出工程と、上記焦点ずれ量と上記感度より特定の光学機能面での部分曲率を求める部分曲率算出工程と、上記レンズ高さと部分曲率を基に光学機能面の補正形状を関数モデルの係数またはマップデータとして出力する補正形状算出工程と、上記補正形状にしたがって成形用金型の特定の光学機能面に対応する鏡面駒の形状を補正加工する補正加工工程と、補正加工された鏡面駒で成形を行う成形工程とよりなる事を特徴とする光学素子の製造方法。
IPC (9)：
B29C 45/76 ,  B29C 33/38 ,  B29C 45/26 ,  G01B 11/02 ,  G01B 11/255 ,  G02B 3/00 ,  G02B 26/10 ,  G02B 26/10 103 ,  B29L 11:00
FI (9)：
B29C 45/76 ,  B29C 33/38 ,  B29C 45/26 ,  G01B 11/02 Z ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 26/10 D ,  G02B 26/10 103 ,  B29L 11:00 ,  G01B 11/24 M
F-Term (44)：
2F065AA24 ,  2F065AA46 ,  2F065AA51 ,  2F065BB05 ,  2F065CC00 ,  2F065CC22 ,  2F065EE00 ,  2F065FF10 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065LL04 ,  2F065LL15 ,  2F065LL62 ,  2F065MM16 ,  2F065NN20 ,  2F065PP02 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ14 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ27 ,  2F065TT08 ,  2H045AA01 ,  2H045CA00 ,  4F202AH74 ,  4F202AH75 ,  4F202AM23 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CD02 ,  4F202CD18 ,  4F202CD21 ,  4F202CD28 ,  4F202CK12 ,  4F202CK43 ,  4F206AH74 ,  4F206AH75 ,  4F206AM23 ,  4F206JA07 ,  4F206JL02 ,  4F206JM04 ,  4F206JN11 ,  4F206JP13 ,  4F206JQ81
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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