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J-GLOBAL ID：200903003734155378

ホモアリル型アミンの合成方法とキラルジルコニウム触媒

Inventor： 小林 修 ,  石谷 暖郎
Applicant, Patent owner： 科学技術振興事業団
Agent (1)： 西澤 利夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000404902
Publication number (International publication number)：2002201166
Application date： Dec. 29, 2000
Publication date： Jul. 16, 2002
Summary：

【要約】【課題】 高い収率で、良好なジアステレオ選択性並びに良好なエナンチオ選択性で、イミン化合物よりホモアリル型アミンを合成することのできる新しい技術手段を提供する。【解決手段】 (R)-3,3′-ジハロゲノ-1,1′-ビ-2-ナフトールとジルコニウム.アルコキシドにより構成されるキラルジルコニウム触媒の存在下にあって、次式(1)【化1】(式中のR1は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または複素環基を示す)で表わされるイミン化合物を、次式(2)【化2】(式中のR2は、脂肪族炭化水素基、またはヒドロキシル基もしくは保護ヒドロキシル基を有する脂肪族炭化水素基を示し、R2は、水素原子または脂肪族炭化水素基を示す)で表わされるアリルスタンナン化合物と反応させて、次式(3)【化3】(式中のR1,R2およびR3は前記のものを示す)で表わされるホモアリル型アミンを合成する。

Claim (excerpt)：

(R)-3,3′-ジハロゲノ-1,1′-ビ-2-ナフトールとジルコニム・アルコキシドにより構成されるキラルジルコニウム触媒の存在下において、次式(1)【化1】(式中のR1は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または複素環基を示す)で表わされるイミン化合物を、次式(2)【化2】(式中のR2は、脂肪族炭化水素基またはヒドロキシル基もしくは保護ヒドロキシル基を有する脂肪族炭化水素基を示し、R3は、水素原子または脂肪族炭化水素基を示す)で表わされるアリルスタンナン化合物と反応させて、次式(3)【化3】(式中のR1,R2およびR3は前記のものを示す)で表わされるホモアリル型アミンを合成することを特徴とするホモアリル型アミンの合成方法。

IPC (9)：

C07C213/02 ,  B01J 31/02 101 ,  C07C215/76 ,  C07C217/84 ,  C07D307/52 ,  C07D317/58 ,  C07B 53/00 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

FI (9)：

C07C213/02 ,  B01J 31/02 101 Z ,  C07C215/76 ,  C07C217/84 ,  C07D307/52 ,  C07D317/58 ,  C07B 53/00 B ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

F-Term (40)：

4C022CA01 ,  4C037HA23 ,  4G069AA06 ,  4G069AA08 ,  4G069BA21A ,  4G069BA21B ,  4G069BC51A ,  4G069BC51B ,  4G069BE06A ,  4G069BE06B ,  4G069BE33A ,  4G069BE33B ,  4G069BE37A ,  4G069BE37B ,  4G069CB25 ,  4G069CB77 ,  4G069FA01 ,  4G069FB04 ,  4G069FC10 ,  4H006AA02 ,  4H006AC52 ,  4H006AC81 ,  4H006BA10 ,  4H006BA28 ,  4H006BA29 ,  4H006BA32 ,  4H006BA45 ,  4H006BA50 ,  4H006BB11 ,  4H006BB14 ,  4H006BB31 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM30 ,  4H006BM72 ,  4H006BN10 ,  4H006BN30 ,  4H006BP30 ,  4H006BU46 ,  4H039CA71 ,  4H039CF40

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 特許第3432476号
  

Cited by examiner (1)

• 特許第3432476号