Pat
J-GLOBAL ID:200903003750569280
分布帰還型固体色素レーザーの製造方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
小堀 益 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002077174
Publication number (International publication number):2003273433
Application date: Mar. 19, 2002
Publication date: Sep. 26, 2003
Summary:
【要約】【課題】 分布帰還型固体色素レーザーの発振波長の延長限界の制限を排除する。【解決手段】 色素をMMA、もしくはMMAとHEMAの共重合に混合し、この混合物を基板に滴下し、スピンコートして基板上で薄膜化し、この薄膜を乾燥し、そしてアニーリングして固化する製造方法において、炭酸プロピレンを混入した重合材を界面活性剤として高濃度の色素を混合する。
Claim (excerpt):
色素をメタクリル酸メチル、もしくはメタクリル酸メチルとメタクリル酸ヒドロキシエチルの共重合に混合し、この混合物を基板に滴下し、スピンコートして基板上で薄膜化し、この薄膜を乾燥し、そしてアニーリングして固化し、可変波長固体色素レーザーチップを製作する分布帰還型固体色素レーザーの製造方法において、前記混合の際に炭酸プロピレンを混入した重合材からなる界面活性剤を高濃度の色素と混合することを特徴とする分布帰還型固体色素レーザーの製造方法。
F-Term (6):
5F072AB20
, 5F072AK07
, 5F072JJ20
, 5F072KK26
, 5F072RR01
, 5F072RR03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (3)
-
特開平3-029384
-
特開平3-029384
-
特開平3-029384
Return to Previous Page