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J-GLOBAL ID:200903003769037262

流れ制御方法およびシステム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (7): 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行 ,  荒川 伸夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008133108
Publication number (International publication number):2008290710
Application date: May. 21, 2008
Publication date: Dec. 04, 2008
Summary:
【課題】コアンダ表面上で用いるために特に適合した流れ制御システムおよび方法を与える。【解決手段】1つの実施例では、複数のプラズマアクチュエータが航空機の翼のコアンダ表面の上に配置される。アクチュエータは、コアンダ表面からの境界層流の剥離の開始を遅延させるか、または流れの剥離を促進するかのいずれかのために選択的に励起される。1つの実施例は、コアンダ表面でのデュアルモードプラズマアクチュエータの使用を開示する。このシステムおよび方法は、後縁表面上の境界層流の剥離に対する制御が望まれる場合の多様な空力学表面に適用可能である。【選択図】図1
Claim (excerpt):
移動プラットフォームのための流れ制御方法であって、 移動プラットフォームの部分の後縁表面上に少なくとも1つのプラズマアクチュエータを配置するステップと、 前記プラズマアクチュエータに電圧を加えるステップと、 前記後縁に隣接した前記プラズマアクチュエータの近辺の空気をイオン化するため、前記後縁表面の上の境界層流の付着または剥離の少なくとも1つに影響を及ぼすよう動作する誘導流を引起すために、前記プラズマアクチュエータへの前記電圧を制御するステップとを含む、方法。
IPC (1):
B64C 21/00
FI (1):
B64C21/00
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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Article cited by the Patent:
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