X線分析方法およびX線分析装置

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995233313
Publication number (International publication number)：1997054052
Application date： Aug. 18, 1995
Publication date： Feb. 25, 1997
Summary：

【要約】【課題】短時間で試料の面分析可能なX線分析方法およびX線分析装置の提供を目的とする。【解決手段】一次放射線照射手段から発生される一次放射線を試料に照射し、該試料より放出される蛍光X線のエネルギーを検出器で測定して試料の元素分析を行うに際し、一次X線照射手段と検出器との間に孔を有するX線遮蔽体を設置し、該孔を通過したX線のエネルギーをエネルギー分散型検出器により測定することにより試料の元素分析を行うことを特徴とする。

Claim 1：

点状光源より発生される一次放射線を試料に照射し、該試料より放出される蛍光X線を検出器で検出して、検出した該蛍光X線のエネルギーに基づいて該試料中に含まれる成分分析を行うX線分析方法において、該試料より放出される蛍光X線を検出するに際し、孔を有するX線遮蔽手段を試料と検出器との間に設置し、該孔を通過した蛍光X線を検出することにより試料の成分分析を行うことを特徴とするX線分析方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

特開平4-175646
特開平2-187689
X線分光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-260787 Applicant：オリンパス光学工業株式会社

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Cited by examiner (2)

特開平4-175646
特開平2-187689

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