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J-GLOBAL ID:200903003784805535

析出用基板

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 梶 良之 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001397298
Publication number (International publication number):2003192324
Application date: Dec. 27, 2001
Publication date: Jul. 09, 2003
Summary:
【要約】【課題】 溶湯に浸漬させた後搬送する際の各基板の位置決め、及び、底面において凝固成長させた析出物を引き剥がす作業を容易に行うことができる。【解決手段】 進行方向の上流側および下流側の各側面1bは、析出物である半導体基板2を上面の両端部1cよりも進行方向の内側に位置させるように形成されている。析出用基板1は、進行方向の上流側から斜め方向に下降されて溶湯15に浸漬された後、進行方向の下流側に斜め方向に上昇されて溶湯15から引き上げられることによって、浸漬された部分に溶湯15の凝固成長した半導体基板2を得る。
Claim (excerpt):
進行方向の上流側から斜め方向に下降されて溶湯に浸漬された後、進行方向の下流側に斜め方向に上昇されて溶湯から引き上げられることによって、浸漬された部分に溶湯の凝固成長した析出物を得る析出用基板であって、前記進行方向の上流側および下流側の各側面は、析出物を上面の両端部よりも進行方向の内側に位置させるように形成されていることを特徴とする析出用基板。
IPC (3):
C01B 33/02 ,  H01L 21/02 ,  H01L 31/04
FI (3):
C01B 33/02 E ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 31/04 X
F-Term (13):
4G072AA01 ,  4G072BB02 ,  4G072BB12 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH01 ,  4G072MM21 ,  4G072MM38 ,  4G072UU01 ,  5F051AA03 ,  5F051CB04 ,  5F051CB29 ,  5F051CB30
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (12)
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Cited by examiner (16)
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