Pat
J-GLOBAL ID:200903003791969314
半導体集積回路の配線構造
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
高田 守 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995235228
Publication number (International publication number):1997082710
Application date: Sep. 13, 1995
Publication date: Mar. 28, 1997
Summary:
【要約】【課題】 半導体集積回路装置の高集積化にともなう配線パターンの微細化により配線パターン、とくに終端部分におけるパターンの基板との接触面積が減少し、従って密着性が低下することにともなう配線パターンの倒れおよび剥がれを防止する。【解決手段】 配線パターン終端部が該配線の最小デザインルールにおける残し寸法幅よりも幅広に形成された配線構造としたものである。終端部を太く形成することにより、レジストや配線の倒れや剥がれを防止する。
Claim (excerpt):
配線の終端部が最小デザインルールにおける残し寸法より幅広に形成した半導体集積回路の配線構造。
IPC (3):
H01L 21/3205
, H01L 27/108
, H01L 21/8242
FI (3):
H01L 21/88 A
, H01L 21/88 S
, H01L 27/10 681 B
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
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特開平3-293728
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半導体集積回路装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-015120
Applicant:九州日本電気株式会社
-
半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-021535
Applicant:ソニー株式会社
-
半導体集積回路装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-081173
Applicant:株式会社日立製作所
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Cited by examiner (5)
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特開平3-293728
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特開平3-293728
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半導体集積回路装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-015120
Applicant:九州日本電気株式会社
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半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-021535
Applicant:ソニー株式会社
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半導体集積回路装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-081173
Applicant:株式会社日立製作所
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