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J-GLOBAL ID：200903003826312399
循環流動床のプロセスガスの処理方法およびその装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
萼 経夫 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997359693
Publication number (International publication number)：1998206028
Application date： Dec. 26, 1997
Publication date： Aug. 07, 1998
Summary：
【要約】【課題】 境界層を形成することなく、循環する固体の濃度が反応器の底から頂部に向かって減少する分布状態を達成することができる循環流動床のプロセスガスの処理方法およびその装置を提供する。【解決手段】 プロセスガス、特に廃物燃焼から廃棄されるガスは、下方のベンチュリノズルのような入口を経て流動床に導入され、核流(K)を形成する。補助ガスの流れ(H)は、核流(K)と同心状の環状の端縁の基部領域から循環流動床内に導入される。流動床の底部の端縁領域に沈んでいる流動層の固体粒子は、核流(K)に供給される。
Claim (excerpt)：
循環流動床内の、特に焼却廃物からの、プロセスガスを処理する方法であって、前記プロセスガスをベンチュリノズルのような入口によって下方から前記流動床内に導入し、前記プロセスガスを核流(K)として流動床内へ導入すると同時に、循環流動床の環状の端縁の領域の底に沈む流動層の粒子が前記核流(K)に供給するように、補助ガス流(H)を環状の端縁の領域(6)に前記核流(K)と同心状に流動床内へ導入することを特徴とする循環流動床内のプロセスガスの処理方法。
IPC (2)：
FI (2)：
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