ヒドロキシル化ジフェニルメタン誘導体を含む組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：志賀正武 , 渡邊隆 , 村山靖彦 , 実広信哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007112095
Publication number (International publication number)：2007291102
Application date： Apr. 20, 2007
Publication date： Nov. 08, 2007
Summary：

【課題】ヒドロキシル化ジフェニルメタン誘導体を含む組成物を提供すること。【解決手段】生理学的に許容される媒体中において、(a)少なくとも1種の式(I)のヒドロキシル化ジフェニルメタン誘導体ならびに(b)式(I)の前記ヒドロキシル化ジフェニルメタン誘導体の可溶化、安定化および/または活性を促進する少なくとも1種の成分を含む組成物に関する。また、本発明は、皮膚に対するこのような組成物の局所的適用を含む、皮膚を手入れまたはメークアップする化粧方法に関する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(a)式(I)の少なくとも1種のヒドロキシル化ジフェニルメタン誘導体

IPC (6)：

A61K 8/34 , A61K 8/49 , A61K 8/44 , A61Q 19/00 , A61Q 1/00 , A61Q 19/08

FI (6)：

A61K8/34 , A61K8/49 , A61K8/44 , A61Q19/00 , A61Q1/00 , A61Q19/08

F-Term (33)：

4C083AA122 , 4C083AB032 , 4C083AB172 , 4C083AC072 , 4C083AC092 , 4C083AC122 , 4C083AC172 , 4C083AC342 , 4C083AC402 , 4C083AC422 , 4C083AC471 , 4C083AC472 , 4C083AC482 , 4C083AC532 , 4C083AC662 , 4C083AC842 , 4C083AD022 , 4C083AD072 , 4C083AD092 , 4C083AD162 , 4C083AD172 , 4C083AD352 , 4C083BB51 , 4C083CC01 , 4C083CC02 , 4C083CC03 , 4C083CC11 , 4C083DD31 , 4C083DD41 , 4C083EE01 , 4C083EE07 , 4C083EE12 , 4C083EE16

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (78)

WO2004/105736
EP1414390
EP0274961

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Cited by examiner (9)

低溶解性の化合物及び親油性アミノ酸誘導体を含む組成物、その使用及び低溶解性の化合物の溶解方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-222160 Applicant：ロレアル
少なくとも1種のパラヒドロキシ安息香酸アルキルおよび少なくとも1種の親油性アミノ酸誘導体を含む組成物、特に化粧品組成物
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2004-570692 Applicant：ロレアル
疎水性治療剤の改善された送達のための組成物および方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-600619 Applicant：リポシンインコーポレイテッド

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Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

光井武夫編「新化粧品学」(南山堂), 2001.01.18, p.345-348, 354-359

Cited by examiner (2)

光井武夫編「新化粧品学」(南山堂), 2001.01.18, p.345-348, 354-359
光井武夫編「新化粧品学」(南山堂), 2001.01.18, p.345-348, 354-359

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