Pat
J-GLOBAL ID:200903003835729693
ヒドロキシル化ジフェニルメタン誘導体を含む組成物
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
志賀 正武
, 渡邊 隆
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007112095
Publication number (International publication number):2007291102
Application date: Apr. 20, 2007
Publication date: Nov. 08, 2007
Summary:
【課題】ヒドロキシル化ジフェニルメタン誘導体を含む組成物を提供すること。【解決手段】生理学的に許容される媒体中において、(a)少なくとも1種の式(I)のヒドロキシル化ジフェニルメタン誘導体ならびに(b)式(I)の前記ヒドロキシル化ジフェニルメタン誘導体の可溶化、安定化および/または活性を促進する少なくとも1種の成分を含む組成物に関する。 また、本発明は、皮膚に対するこのような組成物の局所的適用を含む、皮膚を手入れまたはメークアップする化粧方法に関する。【選択図】なし
Claim (excerpt):
(a)式(I)の少なくとも1種のヒドロキシル化ジフェニルメタン誘導体
IPC (6):
A61K 8/34
, A61K 8/49
, A61K 8/44
, A61Q 19/00
, A61Q 1/00
, A61Q 19/08
FI (6):
A61K8/34
, A61K8/49
, A61K8/44
, A61Q19/00
, A61Q1/00
, A61Q19/08
F-Term (33):
4C083AA122
, 4C083AB032
, 4C083AB172
, 4C083AC072
, 4C083AC092
, 4C083AC122
, 4C083AC172
, 4C083AC342
, 4C083AC402
, 4C083AC422
, 4C083AC471
, 4C083AC472
, 4C083AC482
, 4C083AC532
, 4C083AC662
, 4C083AC842
, 4C083AD022
, 4C083AD072
, 4C083AD092
, 4C083AD162
, 4C083AD172
, 4C083AD352
, 4C083BB51
, 4C083CC01
, 4C083CC02
, 4C083CC03
, 4C083CC11
, 4C083DD31
, 4C083DD41
, 4C083EE01
, 4C083EE07
, 4C083EE12
, 4C083EE16
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (69)
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WO2004/105736
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EP1414390
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EP0274961
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EP0780115
-
EP1025901
-
FR2787730
-
EP1034839
-
FR2659554
-
WO93/05753
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EP1637124
-
EP0728460
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EP1269986
-
EP116005
-
EP1172077
-
EP1353629
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EP1588694
-
EP1172089
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EP1466587
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JP-2-295912
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US-A-5,412,004
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US-A-5,811,487
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WO2004/105736
-
EP1221933
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DE10324567
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EP1562562
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EP1151742
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FR2869796
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US5538793
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WO2005/053632
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US3792068
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WO9318743
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DE10324567
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EP1529523
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EP-A-032883
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EP1133979
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EP1129694
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FR0108283
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EP0852949
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EP0796861
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EP0218200
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EP0899330
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EP1333022
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EP1333021
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WO2004/105736
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EP1028120
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DE10324567
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EP761204
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WO2004/105736
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FR-A-2812544
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FR-A-2814950
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WO01/94381
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FR2877220
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ミトコンドリアルベンゾジアゼピン受容体アンタゴニストからなるストレス疾患の治療剤
Gazette classification:再公表公報
Application number:JP2002010377
Applicant:小野薬品工業株式会社
-
N-カルバモイル窒素含有縮合環化合物およびその化合物を有効成分として含有する薬剤
Gazette classification:再公表公報
Application number:JP2003001481
Applicant:小野薬品工業株式会社
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WO00/44384
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EP1555984
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EP1484052
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WO02/47650
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EP1038519
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FR2722380
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US5492426
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FR2761959
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WO01/03538
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WO03/018423
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FR2791042
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FR2792618
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FR8907947
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EP0661035
-
EP0641557
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Cited by examiner (9)
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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光井武夫編「新化粧品学」(南山堂), 2001.01.18, p.345-348, 354-359
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光井武夫編「新化粧品学」(南山堂), 2001.01.18, p.345-348, 354-359
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