Pat
J-GLOBAL ID:200903003845050656
導電性パターン形成方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中島 淳 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002092438
Publication number (International publication number):2003289178
Application date: Mar. 28, 2002
Publication date: Oct. 10, 2003
Summary:
【要約】【課題】 耐久性と導電安定性とに優れ、断線のない微細な配線(回路)を容易に形成することが可能な導電性パターン形成方法を提供する。【解決手段】 疎水性支持体上に、少なくとも側鎖又は末端に光活性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させ、画像様にエネルギーを付与して、疎水性ポリマー含有層上に該親水性ポリマーを固定化して親水性パターンを形成し、該親水性パターン上に導電性材料を吸着させることを特徴とする。
Claim (excerpt):
疎水性支持体上に、少なくとも側鎖又は末端に光活性基を有する親水性ポリマーを含有する組成物を接触させ、像様にエネルギーを付与して、疎水性ポリマー含有層上に該親水性ポリマーを固定化して親水性パターンを形成し、該親水性パターン上に導電性材料を吸着させる導電性パターン形成方法。
IPC (2):
H05K 3/10
, G03F 7/40 521
FI (2):
H05K 3/10 C
, G03F 7/40 521
F-Term (22):
2H096AA26
, 2H096BA06
, 2H096CA20
, 2H096EA04
, 2H096GA08
, 2H096HA30
, 2H096JA04
, 5E343AA02
, 5E343AA11
, 5E343AA38
, 5E343AA39
, 5E343BB15
, 5E343BB22
, 5E343BB60
, 5E343BB65
, 5E343BB78
, 5E343CC22
, 5E343DD01
, 5E343EE02
, 5E343EE12
, 5E343EE32
, 5E343GG02
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