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J-GLOBAL ID：200903003857239100

浄化装置

Inventor： 佐藤 賢志
Applicant, Patent owner： 松下電工株式会社
Agent (1)： 安藤 淳二 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999120467
Publication number (International publication number)：2000308896
Application date： Apr. 27, 1999
Publication date： Nov. 07, 2000
Summary：

【要約】【課題】 過大汚水流入時にも放流水質の悪化を防止することができる浄化装置を提供する。【解決手段】 浄化槽1内の温度が低温となった際に、曝気処理槽2内の活性汚泥濃度が高くなるように設定し、浄化槽1内の温度が高温となった際に、曝気処理槽2内の活性汚泥濃度が低くなるように設定した。

Claim (excerpt)：

浄化槽内の温度が低温となった際に、曝気処理槽内の活性汚泥濃度が高くなるように設定し、浄化槽内の温度が高温となった際に、曝気処理槽内の活性汚泥濃度が低くなるように設定してなる浄化装置。

IPC (2)：

C02F 3/12 ,  C02F 3/34 101

FI (2)：

C02F 3/12 H ,  C02F 3/34 101 C

F-Term (15)：

4D028AA01 ,  4D028BB07 ,  4D028BC17 ,  4D028BD08 ,  4D028BD16 ,  4D028CA04 ,  4D028CA05 ,  4D028CB02 ,  4D028CB03 ,  4D028CB05 ,  4D028CC05 ,  4D028CD01 ,  4D040BB07 ,  4D040BB63 ,  4D040BB91