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J-GLOBAL ID：200903003873505626

フランジ装置及びこれを用いた横型プロセスチューブ装置

Inventor： 福永 伸壱
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995172106
Publication number (International publication number)：1997022902
Application date： Jul. 07, 1995
Publication date： Jan. 21, 1997
Summary：

【要約】【目的】 バックフランジ部の内周面に反応ガスによる反応生成物が付着、堆積することがない横型プロセスチューブ装置を得ること。【構成】 本発明の横型CVD装置1では、プロセスガス供給口4と半導体ウエハSの出入口が形成されているフロントフランジ部6、反応ガスを反応させ、半導体ウエハSの表面を化学処理するチューブ2からなるプロセス部、反応ガスを排気するガス排気部7などが形成されているバックフランジ部8などからなる横型CVD装置において、前記バックフランジ部8に、そのバックフランジ部を加熱するヒータ12と温度センサ13とを設けている。

Claim (excerpt)：

円筒状のフランジ本体にヒータと温度センサとを配設したことを特徴とするフランジ装置。

IPC (4)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/22 501 ,  H01L 21/318

FI (4)：

H01L 21/31 B ,  C23C 16/44 J ,  H01L 21/22 501 D ,  H01L 21/318 B