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J-GLOBAL ID：200903003883677867

断層像輪郭線描画装置

Inventor：
西出 明彦

About 西出 明彦


Applicant, Patent owner：
株式会社東芝

About 株式会社東芝


Agent (1)： 則近 憲佑
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992007066
Publication number (International publication number)：1993192326
Application date： Jan. 20, 1992
Publication date： Aug. 03, 1993
Summary：
【要約】【目的】 被検体の断層像を図面と効率的かつ精度良く比較し得る断層像輪郭線描画装置を提供する。【構成】 断層像再構成プロセッサ2で再構成した被検体の断層像を輪郭線抽出プロセッサ3で2値化して輪郭線を抽出し、この輪郭線データをLAN8を介してCADシステム7に供給し、CADシステム7に記憶されている被検体の図面上に重ねて描画する。
Claim (excerpt)：
図面に基づいて製作された被検体が図面通りに形成されているか否かを判定するために被検体の断層像の輪郭線を描画する断層像輪郭線描画装置であって、被検体の断層像を撮像する撮像手段と、該撮像手段で撮像した被検体の撮像データを収集して、被検体の断層像を再構成する断層像再構成手段と、該断層像再構成手段で再構成された断層像を2値化して輪郭線を抽出する輪郭線抽出手段と、該輪郭線抽出手段で抽出した輪郭線を被検体の断層像の位置に相当する図面上に重ねて描画する輪郭線描画手段とを有することを特徴とする断層像輪郭線描画装置。
IPC (8)：
A61B 6/03 360 ,  A61B 5/055 ,  G01B 15/04 ,  G01B 17/00 ,  G01N 23/04 ,  G01R 33/28 ,  G01N 29/06 ,  G06F 15/62 400
FI (2)：
A61B 5/05 380 ,  G01N 24/02 Y
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
  • 特開昭60-190843
  • 特開昭60-049249
  • 特開昭60-190843
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