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J-GLOBAL ID：200903003893766272

レジスト処理装置及び測定方法

Inventor： 上田 達治
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社
Agent (1)： 金本 哲男 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999255628
Publication number (International publication number)：2000091183
Application date： Sep. 09, 1999
Publication date： Mar. 31, 2000
Summary：

【要約】【課題】 加熱処理部で加熱される基板の温度を,熱センサを有するダミー基板によって正確に測定する。【解決手段】 加熱処理部43を有するチリングホットプレート41の蓋48に,測定用のピン50を設ける。このピン50は,処理基板としてのウエハWを加熱する際にはウエハWに接触しない。熱電対を有するダミー基板を加熱した際には,ダミー基板に設けられた出力端子にピン50が接触する。測定結果は,処理部51で処理された後,表示部52で表示される。

Claim (excerpt)：

基板上にレジストを塗布して露光装置に受け渡し,前記露光装置から受け取った前記基板を現像処理するレジスト処理装置であって,・少なくとも前記露光装置から受け取った基板を加熱処理する加熱処理部と,・少なくとも前記露光装置と加熱処理部との間で基板を受け渡す搬送機構と,・熱センサを有するダミー基板が待機する待機部と,・前記加熱処理部に配置され,前記搬送機構によって前記基板待機部から前記加熱処理部へ受け渡されて当該加熱処理部で加熱処理された前記ダミー基板の前記熱センサでセンシングされた温度を計測する計測手段とを具備したことを特徴とする,レジスト処理装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開昭62-069616
  
• 特開昭64-072525
  
• 特開平4-219921