Pat

J-GLOBAL ID：200903003896998140

真空蒸着用マスク、それを用いた薄膜パターンの形成方法及びEL素子の製造方法

Inventor： 柳生 慎悟
Applicant, Patent owner： 日本ビクター株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000230708
Publication number (International publication number)：2002047560
Application date： Jul. 31, 2000
Publication date： Feb. 15, 2002
Summary：

【要約】【課題】 微細な薄膜パターンを真空蒸着して形成するのに好適な真空蒸着用マスク、それを用いた薄膜パターンの形成方法及びEL素子の製造方法を提供する。【解決手段】 蒸着用マスク20は、基板13表面に第1の開口窓7を形成し、この裏面側から第1の開口窓7に連通し、この第1の開口窓7よりも大きい第2の開口窓8を有するようにしたものである。薄膜パターンは、蒸着用基板14の裏面に磁石17を配置し、蒸着用マスク20の第1の開口窓7側を蒸着用基板14の表面に対向配置して、薄膜を蒸着用基板14の表面に真空蒸着して形成する。また、一対の電極層15、19に設けられるEL層18R、18G、18Bは、蒸着用マスク20の第1の開口窓7側を一方の電極層15に対向配置させた後、この第1の開口窓7側から真空蒸着してこの一方の電極層15上に形成する。

Claim (excerpt)：

平坦な基板の少なくとも一面に磁性材料の層を備え、この磁性材料の層側から前記基板に貫通する所定形状の開口窓を備えたことを特徴とする真空蒸着用マスク。

IPC (4)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 ,  G03F 1/00

FI (4)：

C23C 14/24 G ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A ,  G03F 1/00 Z

F-Term (16)：

2H095AA10 ,  3K007AB04 ,  3K007AB18 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA62 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029HA02 ,  4K029HA03 ,  4K029HA04