Pat
J-GLOBAL ID:200903003914852484
スチレン樹脂組成物およびその製造方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
高橋 勝利
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003020223
Publication number (International publication number):2003292707
Application date: Jan. 29, 2003
Publication date: Oct. 15, 2003
Summary:
【要約】【課題】 成形加工品としての良好な強度を有する高い分子量を有しながら、メルトマスフローレイトとメルトテンションが高く成形加工性に優れ、かつ製造時にゲル化しにくいスチレン樹脂組成物およびその製造方法を提供する。【解決手段】 20万〜35万の質量平均分子量を有する線状ポリスチレンと、100万〜1000万の質量平均分子量を有する多分岐状ポリスチレンからなるスチレン樹脂組成物が25万〜70万の平均分子量を有し、かつメルトマスフローレイト(MFR)およびメルトテンション(MT)が、それぞれ下記式(1)および式(2)を満足することを特徴とするスチレン樹脂組成物。 MFR≧45×exp(-0.1×Mw×10-4) (式1) MT≧0.07Mw×10-4+1.8 (式2)(式中、MFR、MTおよびMwは、それぞれスチレン樹脂組成物のメルトマスフローレイト、メルトテンションおよび質量平均分子量を表す)
Claim (excerpt):
20万〜35万の質量平均分子量を有する線状ポリスチレンと、100万〜1000万の質量平均分子量を有する多分岐状ポリスチレンからなるスチレン樹脂組成物が25万〜70万の平均分子量を有し、かつメルトマスフローレイト(MFR)およびメルトテンション(MT)が、それぞれ下記式(1)および(2)を満足することを特徴とするスチレン樹脂組成物。【式1】 MFR≧45×exp(-0.1×Mw×10-4) (1)(式中、MFRおよびMwは、それぞれスチレン樹脂組成物のメルトマスフローレイトおよび質量平均分子量を表す)【式2】MT≧0.07Mw×10-4+1.8 (2)(式中、MTおよびMwは、それぞれスチレン樹脂組成物のメルトテンションおよび質量平均分子量を表す)
IPC (2):
FI (2):
F-Term (13):
4J002BC03W
, 4J002BC04X
, 4J002BC10X
, 4J027AA04
, 4J027AB01
, 4J027AB10
, 4J027AC01
, 4J027AC03
, 4J027AC06
, 4J027AD02
, 4J027AJ02
, 4J027BA05
, 4J027CD01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
スチレン系樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-304803
Applicant:三井東圧化学株式会社
Cited by examiner (2)
Return to Previous Page