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J-GLOBAL ID：200903003928586795

加熱処理施設と排ガス処理方法

Inventor： 柏木 佳行 ,  吉岡 信行
Applicant, Patent owner： 株式会社明電舎
Agent (1)： 志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999061048
Publication number (International publication number)：2000254447
Application date： Mar. 09, 1999
Publication date： Sep. 19, 2000
Summary：

【要約】【課題】 廃棄物等を加熱処理して発生する有害成分を含む排ガスの処理は、排ガスを一旦高温で燃焼して有害成分を分解除去した後、冷却してバグフィルタで浄化して大気に排出する。高温から低温に冷却する際、300°C付近でダイオキシン類が再生成されるので、これを防止するため高温ガスに冷却水を噴霧して急速冷却することが行われている。冷却水として消毒用の塩素を含んだ工業用水や上水が使用されているので、有害化を促進する可能性がある。【解決手段】 加熱処理炉1内で脱塩素処理するか、又は排ガスを導出して加熱処理炉1外の塩素反応手段18で脱塩素処理し、これを排ガス燃焼手段21で燃焼処理し、排ガス冷却手段22で塩素を含まない水を噴霧して急速冷却する。

Claim (excerpt)：

被処理物を加熱処理して発生した析出ガスを含む排ガスを大気中に放出する排気系において排ガスを燃焼した後に、急速冷却して冷却した排ガスを浄化装置を通過させて大気中に排出する加熱処理施設であって、被処理物を加熱処理して分解ガスを含む排ガスを発生させる加熱処理炉と、排ガス中に含まれる塩素系ガス成分と塩素反応剤とを反応させて塩素系ガス成分を含まない排ガスを得る脱塩素処理手段と、該脱塩素処理手段で得られた排ガスを燃焼する排ガス燃焼手段と、該排ガス燃焼手段から送出した燃焼後の排ガスに蒸発冷却液を注入噴霧する排ガス冷却手段とを備えたことを特徴とする加熱処理施設。

IPC (9)：

B01D 53/70 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/77 ZAB ,  B09B 3/00 ,  F23G 5/44 ZAB ,  F23G 7/06 ZAB ,  F23J 15/06 ,  F23G 5/027 ZAB ,  F23G 5/14 ZAB

FI (8)：

B01D 53/34 134 E ,  F23G 5/44 ZAB Z ,  F23G 7/06 ZAB E ,  F23G 5/027 ZAB Z ,  F23G 5/14 ZAB F ,  B01D 53/34 ZAB C ,  B09B 3/00 302 F ,  F23J 15/00 K

F-Term (51)：

3K061AA07 ,  3K061AB02 ,  3K061AC01 ,  3K061BA05 ,  3K065AA07 ,  3K065AB02 ,  3K065AC01 ,  3K065BA05 ,  3K065HA01 ,  3K070DA05 ,  3K070DA09 ,  3K070DA35 ,  3K078AA05 ,  3K078BA08 ,  3K078BA26 ,  4D002AA18 ,  4D002AA19 ,  4D002AA21 ,  4D002AC04 ,  4D002BA03 ,  4D002BA05 ,  4D002BA12 ,  4D002BA13 ,  4D002BA14 ,  4D002CA01 ,  4D002CA05 ,  4D002CA13 ,  4D002DA01 ,  4D002DA02 ,  4D002DA04 ,  4D002DA11 ,  4D002DA12 ,  4D002DA16 ,  4D002DA35 ,  4D002EA02 ,  4D002GA01 ,  4D002GA03 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB08 ,  4D002GB20 ,  4D002HA10 ,  4D004AA46 ,  4D004AB06 ,  4D004AC04 ,  4D004CA27 ,  4D004CA47 ,  4D004CB31 ,  4D004CC12 ,  4D004DA03 ,  4D004DA06