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J-GLOBAL ID：200903003944036088

偏光板用保護膜の製造方法

Inventor：
河野 雅秀

About 河野 雅秀

, 
畦上 仁

About 畦上 仁


Applicant, Patent owner：
ティーディーケイ株式会社

About ティーディーケイ株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001220948
Publication number (International publication number)：2003025351
Application date： Jul. 23, 2001
Publication date： Jan. 29, 2003
Summary：
【要約】【課題】ハードコート層やアンチグレア層、ポリマー配向膜などの機能性層を保護膜上に簡便にかつ効率的に形成できる偏光板用保護膜の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】上記の課題は以下の本発明の製造方法により解決される。セルローストリアセテートを溶剤に溶解したドープをバンド又はドラム上に流延し、バンド又はドラム上から剥ぎ取った後、乾燥工程をへて作製する偏向板用保護膜の製造方法において、ドープ流延により形成された層が湿潤状態にある内に該層上に機能性層形成用液を塗布することを特徴とする偏光板用保護膜の製造方法。
Claim (excerpt)：
セルローストリアセテートを溶剤に溶解したドープをバンド又はドラム上に流延し、バンド又はドラム上から剥ぎ取った後、乾燥工程をへて作製する偏向板用保護膜の製造方法において、ドープ流延により形成された層が湿潤状態にある内に該層上に機能性層形成用液を塗布することを特徴とする偏光板用保護膜の製造方法。
IPC (4)：
B29C 41/26 ,  B29C 41/28 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00
FI (4)：
B29C 41/26 ,  B29C 41/28 ,  B29K 1:00 ,  B29L 7:00
F-Term (10)：
4F205AA01 ,  4F205AG01 ,  4F205AH73 ,  4F205AM26 ,  4F205GA07 ,  4F205GB02 ,  4F205GC02 ,  4F205GC07 ,  4F205GN21 ,  4F205GW50
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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