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J-GLOBAL ID：200903003963201162

透明導電膜の製造方法及び製造装置

Inventor： 浅岡 圭三 ,  関口 泰広
Applicant, Patent owner： 鐘淵化学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995242012
Publication number (International publication number)：1997087406
Application date： Sep. 20, 1995
Publication date： Mar. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】 たわみのないプラスチック基板の上に透明導電膜を形成する方法を提供すること。【解決手段】 プラスティック基板上に透明導電膜を形成する方法において、基板を保持するカート及び基板を透明導電膜を形成する温度より高い温度に上げた後、基板をカートにセット固定し、基板及びカートの温度を成膜温度まで下げて、透明導電膜を成膜することを特徴とする透明導電膜の製造方法。

Claim (excerpt)：

プラスティック基板上に透明導電膜を形成する方法において、基板を保持するカート及び基板を透明導電膜を形成する温度より高い温度に上げた後、基板をカートにセット固定し、基板及びカートの温度を成膜温度まで下げて、透明導電膜を成膜することを特徴とする透明導電膜の製造方法。

IPC (4)：

C08J 7/06 ,  C08J 7/00 307 ,  C23C 14/02 ,  C23C 14/08

FI (4)：

C08J 7/06 B ,  C08J 7/00 307 ,  C23C 14/02 A ,  C23C 14/08 D