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J-GLOBAL ID：200903003965468654

ウエハ加熱装置

Inventor： 奥田 憲男
Applicant, Patent owner： 京セラ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997235275
Publication number (International publication number)：1999074064
Application date： Aug. 29, 1997
Publication date： Mar. 16, 1999
Summary：

【要約】【課題】550°C以上の高温に急速に昇温しても破損することがなく、繰り返し使用可能な信頼性の高い大型のウエハ加熱装置を提供することになる。【解決手段】円盤状をしたセラミック基体2の上面をウエハWの保持面3とし、その内部に抵抗発熱体4を埋設してなるウエハ加熱装置1の上記保持面3と反対側の下面を基準面5とし、この基準面5から上記セラミック基体2の厚みTの0.02〜0.6倍の距離に前記抵抗発熱体4を配置するとともに、この抵抗発熱体4の存在領域Pが略円形であって、その最外周が上記セラミック基体2の側面6から35mm以内の距離に位置するようにする。

Claim (excerpt)：

円盤状をしたセラミック基体の上面をウエハの保持面とし、その内部に抵抗発熱体を埋設してなるウエハ加熱装置において、上記保持面とは反対側の下面を基準面とし、該基準面から上記セラミック基体の厚みの0.02〜0.6倍の距離に前記抵抗発熱体を配置するとともに、この抵抗発熱体の存在領域が略円形であって、その最外周が上記セラミック基体の側面から35mm以内にあることを特徴とするウエハ加熱装置。

IPC (4)：

H05B 3/20 356 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/68

FI (4)：

H05B 3/20 356 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/68 N ,  H01L 21/302 B