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J-GLOBAL ID:200903003966263827

処理装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 鈴江 武彦 (外5名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999155040
Publication number (International publication number):2000349134
Application date: Jun. 02, 1999
Publication date: Dec. 15, 2000
Summary:
【要約】【課題】スループットの向上を図ることができる処理装置を提供することにある。【解決手段】真空処理室1と、この真空処理室1と連通するロード・ロック室2と、このロード・ロック室2内に設けられ、真空処理室1にウェーハWを搬入・搬出する搬送アーム6とを備えた処理装置において、前記ロード・ロック室2内にウェーハWのノッチaを検出して位置決めする位置決め機構16を設け、前記ロード・ロック室2の圧力調整と同時に位置決め機構16によってウェーハWのノッチaを検出して位置決めすることを特徴とする。
Claim (excerpt):
処理室と、この処理室と連通するロード・ロック室と、このロード・ロック室内に設けられ、前記処理室に被処理体を搬入・搬出する搬送機構とを備えた処理装置において、前記ロード・ロック室内に被処理体の切欠部を検出して被処理体を位置決めする位置決め機構を設け、前記ロード・ロック室の圧力調整と同時に前記位置決め機構によって前記被処理体の切欠部を検出して位置決めすることを特徴とする処理装置。
F-Term (15):
5F031GA07 ,  5F031GA35 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA49 ,  5F031JA05 ,  5F031JA34 ,  5F031JA35 ,  5F031KA08 ,  5F031KA13 ,  5F031KA14 ,  5F031LA07 ,  5F031LA08 ,  5F031MA32 ,  5F031NA09
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
  • 特開平2-116125
  • ウエハ処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平8-288862   Applicant:日立テクノエンジニアリング株式会社
  • 処理装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-043278   Applicant:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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