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J-GLOBAL ID：200903003971154386
表面処理装置及び処理方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：
渡辺 昇
, 原田 三十義
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006142546
Publication number (International publication number)：2007317699
Application date： May. 23, 2006
Publication date： Dec. 06, 2007
Summary：
【課題】処理ガスを処理ヘッドから被処理物に吹き付けながら処理ヘッドを被処理物に対し相対移動させて表面処理を行なう装置において、被処理物の端部の過剰処理(ローディング効果)を防止する。【解決手段】処理ヘッド20において被処理物Wと対向すべき下面21に処理ガスの吹出し口52と吸引口61を上記相対移動方向に離して形成する。被処理物Wの設置領域11の端縁の外側の設置外領域12には、多孔部材からなる不活性ガス吹出し部71を設け、この不活性ガス吹出し部71の端面と設置領域11の被処理物Wとの間に吸引孔82を形成する。処理ヘッド20が不活性ガス吹出し部71と対向するとき、処理ガス流Fに不活性ガスを混入するとともに、この混入量と等量のガスを吸引孔82から吸込む。【選択図】図5
Claim (excerpt)：
被処理物に処理ガスを吹き付けて前記被処理物の表面を処理する装置であって、
処理ガスの吹出し口と吸引口が形成された面を有し、前記吹出し口に対し前記吸引口が一方向の一側に離れて配置された処理ヘッドと、
前記処理ヘッドを、前記被処理物が設置される領域及び該設置領域の前記一方向の前記一側とは反対側の端縁の外側を含む範囲内で前記設置領域に対し前記一方向に相対移動させる移動機構と、
前記設置領域ひいては被処理物に対し位置固定されるようにして、該設置領域の前記反対側の端縁から外側に前記所定距離分の幅を持つ設置外領域に配置され、前記処理ヘッドと対向可能な側に不活性ガスを吹き出す不活性ガス吹出し孔を有する不活性ガス吹出し部と、
を備えたことを特徴とする表面処理装置。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L21/302 101E
, H01L21/31 C
5F004AA01
, 5F004BA20
, 5F045AA08
, 5F045BB02
, 5F045DP03
, 5F045EH18
Cited by applicant (1)
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常圧プラズマ処理方法及びその装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2000-346859
Applicant：積水化学工業株式会社, 株式会社ケミトロニクス
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