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J-GLOBAL ID：200903003971193039
ポジ型フォトレジスト組成物
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993323191
Publication number (International publication number)：1995152155
Application date： Nov. 29, 1993
Publication date： Jun. 16, 1995
Summary：
【要約】【構成】 アルカリ可溶性樹脂、高エネルギー線に対して酸を発生する酸発生剤及び分子内に酸によって分解する基を一つ以上有する溶解阻止剤を、下記式(1)【化1】で示される3-メチル-3-メトキシブタノールと下記式(2)【化2】で示される1-エトキシ-2-プロパノールとの混合溶媒に溶解してなることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【効果】 本発明のレジスト組成物は、ポジ型レジストとして高エネルギー線に感応し、感度、解像性、プラズマエッチング耐性に優れ、しかもレジストパターンの耐熱性にも優れている。また、本発明のレジスト組成物をウェハー上に塗布すると、塗布膜厚は設定値に容易に一致でき、ウェハー面内での膜厚のバラツキの制御も極めて容易にできることから、パターン寸法の更なる高精度化、微細化の要求にも応えることができる。
Claim (excerpt)：
アルカリ可溶性樹脂、高エネルギー線に対して酸を発生する酸発生剤及び分子内に酸によって分解する基を一つ以上有する溶解阻止剤を、下記式(1)【化1】で示される3-メチル-3-メトキシブタノールと下記式(2)【化2】で示される1-エトキシ-2-プロパノールとの混合溶媒に溶解してなることを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
IPC (6)：
G03F 7/039 501
, C08F 12/14 MJY
, G03F 7/004 501
, G03F 7/004 503
, G03F 7/028
, H01L 21/027
