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J-GLOBAL ID：200903003976221561

プラズマ処理装置

Inventor：
河西 繁

About 河西 繁

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山本 伸彦

About 山本 伸彦

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足立 光

About 足立 光

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長田 勇輝

About 長田 勇輝


Applicant, Patent owner：
東京エレクトロン株式会社

About 東京エレクトロン株式会社


Agent (1)： 浅井 章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001381539
Publication number (International publication number)：2003188103
Application date： Dec. 14, 2001
Publication date： Jul. 04, 2003
Summary：
【要約】【課題】 マッチング回路を小型化することによってマイクロ波発生源等をシールド蓋部上に一体化させて搭載することが可能なプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 被処理体Wを載置する載置台44を真空引き可能になされた処理容器42内に設け、前記処理容器の天井の開口部にマイクロ波透過板70を介して平面アンテナ部材74を設けると共に、前記平面アンテナ部材の上方を覆うように接地されたシールド蓋体78を設け、マイクロ波発生源84からのマイクロ波を導波管82を介して前記平面アンテナ部材へ供給するようにしたプラズマ処理装置において、前記アンテナ部材と前記シールド蓋体との間の上下方向の距離を相対的に変化させる部材昇降機構85と、前記導波管内に対して挿入可能に設けられた同調棒104と、前記同調棒を、その挿入量を調整可能に移動させる同調棒駆動機構102と、前記アンテナ部材の昇降量と前記同調棒の挿入量とを制御することによりマッチング調整を行うマッチング制御部114とを備える。
Claim 1：
被処理体を載置する載置台を真空引き可能になされた処理容器内に設け、前記処理容器の天井の開口部にマイクロ波透過板を介して平面アンテナ部材を設けると共に、前記平面アンテナ部材の上方を覆うように接地されたシールド蓋体を設け、マイクロ波発生源からのマイクロ波を導波管を介して前記平面アンテナ部材へ供給するようにしたプラズマ処理装置において、前記アンテナ部材と前記シールド蓋体との間の上下方向の距離を相対的に変化させる部材昇降機構と、前記導波管内に対して挿入可能に設けられた同調棒と、前記同調棒を、その挿入量を調整可能に移動させる同調棒駆動機構と、前記アンテナ部材の昇降量と前記同調棒の挿入量とを制御することによりマッチング調整を行うマッチング制御部とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (3)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/511 ,  H05H 1/46
FI (3)：
H01L 21/205 ,  C23C 16/511 ,  H05H 1/46 B
F-Term (19)：
4K030AA06 ,  4K030AA14 ,  4K030AA18 ,  4K030BA29 ,  4K030BA44 ,  4K030CA12 ,  4K030FA02 ,  4K030JA03 ,  4K030JA20 ,  4K030KA41 ,  5F045AA09 ,  5F045AC01 ,  5F045AC11 ,  5F045AC15 ,  5F045DP04 ,  5F045EH02 ,  5F045EH03 ,  5F045EH07 ,  5F045EH19
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2) Cited by examiner (2)

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