Pat
J-GLOBAL ID:200903003993056990
パターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (7):
岡部 正夫
, 加藤 伸晃
, 岡部 讓
, 臼井 伸一
, 越智 隆夫
, 朝日 伸光
, 三山 勝巳
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007174062
Publication number (International publication number):2009013225
Application date: Jul. 02, 2007
Publication date: Jan. 22, 2009
Summary:
【課題】本発明の目的は、フォトマスクが不要であり、パターンの精密度を高めることのできるパターン形成用レジン組成物及びこれを利用するインプレーンプリンティング工程方法を提供することである。【解決手段】本発明は、フォトマスクの代わりにモールド板130を使用してレジスト層120の微細パターンを形成するインプレーンプリンティング工程方法であること、及びレジスト層120を形成するレジンの組成物が、液体状の高分子前駆体と、親水性基のアクリレートと、粘度調節剤と、光開始剤と、添加剤とを含むことを特徴とする。【選択図】図2B
Claim (excerpt):
モールド板の加圧成形でパターニングされるパターン形成用レジン組成物において、前記パターン形成用レジン組成物は、
1重量%〜10重量%の液体状の高分子前駆体と、
40重量%〜60重量%の親水性基のアクリレートと、
10重量%〜20重量%の粘度調節剤と、
1重量%〜5重量%の光開始剤と、
残量としての添加剤と
を含むことを特徴とするパターン形成用レジン組成物。
IPC (6):
C08F 220/10
, H01L 21/027
, C08F 220/22
, B29C 59/02
, C08F 2/44
, C08F 220/28
FI (7):
C08F220/10
, H01L21/30 502R
, H01L21/30 502D
, C08F220/22
, B29C59/02 Z
, C08F2/44 C
, C08F220/28
F-Term (31):
4F209AA21
, 4F209AA43
, 4F209AA44
, 4F209AC05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AJ03
, 4F209AJ08
, 4F209AJ09
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 4J011AA05
, 4J011PA65
, 4J011PA69
, 4J011PC02
, 4J011PC08
, 4J100AL03Q
, 4J100AL08R
, 4J100AL10S
, 4J100AL66P
, 4J100BA02P
, 4J100BA03P
, 4J100BA12R
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100JA38
, 5F046AA28
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