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J-GLOBAL ID：200903004011032355

縮小投影露光方法

Inventor： 田中 更吉
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992176336
Publication number (International publication number)：1994020911
Application date： Jul. 03, 1992
Publication date： Jan. 28, 1994
Summary：

【要約】【目的】縮小投影露光装置の露光フィールドサイズに制約されることなく、多数の異なるチップパターンを1枚のレチクルで露光することによって、レチクルの交換時間短縮化と管理の効率化を図る。【構成】1枚のレチクル2中に多数の異なるチップパターンA,B,C,Dを所定の位置に配置し、そのレチクル2を用いてレチクルステージ1とウェハーステージ4を交互に移動させて、ウェハー5上の所定の場所に1枚のレチクル2で多数の異なるチップパターンa,b,c,dを露光する。

Claim (excerpt)：

縮小投影露光方法において、1枚のレチクル中に2個以上の異なるチップパターンを配置し、レチクル及びウェハーステージの各々を移動して前記チップパターンを各々ウェハー上の所定の位置へ露光することを特徴とする縮小投影露光方法。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521