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J-GLOBAL ID：200903004017173406
化学増幅型ポジ型フォトレジスト製造用重合体及びこれを含有するフォトレジスト
Inventor：
,
,
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
石田 敬 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997279049
Publication number (International publication number)：1998147619
Application date： Oct. 13, 1997
Publication date： Jun. 02, 1998
Summary：
【要約】【課題】 遠紫外線、KrFエキシマレーザー等の放射線に対して高感度、高解像性、高耐熱性を有する化学増幅型ポジ型フォトレジスト製造用重合体及びこれを含有するフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 反復単位が次の一般式(I)で表示される重合体及びこれを主成分とする化学増幅型ポジ型フォトレジスト材料である。【化1】前記式において、R1 、R2 及びR3 はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、R4 は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基であり、R5 、R6 及びR7 はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、t-ブチル基、テトラヒドロピランイル基又はアルコキシメチレン基であり、j=1〜8、k=0〜8の整数であり、l、m及びnはそれぞれ反復単位を示す数で、l+m+nは1である。
Claim (excerpt)：
反復単位が次の一般式(I)で表示され、ポリスチレン換算重量平均分子量が2,000〜1,000,000であり、分子量分布が1.0〜5.0であることを特徴とする重合体。【化1】前記式において、R1 、R2 及びR3 はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基であり、R4 は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基であり、R5 、R6 及びR7 はそれぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、t-ブチル基、テトラヒドロピランイル基又はアルコキシメチレン基であり、j=1〜8、k=0〜8の整数であり、l、m及びnはそれぞれ反復単位を示す数で、l+m+nは1である。
IPC (8)：
C08F212/14
, C08F220/00
, C08F220/30
, C08L 25/18
, C08L 33/00
, C08L 33/14
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
C08F212/14
, C08F220/00
, C08F220/30
, C08L 25/18
, C08L 33/00
, C08L 33/14
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
