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J-GLOBAL ID：200903004099785587

電子ビーム露光装置

Inventor： 川村 幸里
Applicant, Patent owner： 株式会社東京精密
Agent (5)： 石田 敬 ,  鶴田 準一 ,  土屋 繁 ,  西山 雅也 ,  樋口 外治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003078069
Publication number (International publication number)：2004288810
Application date： Mar. 20, 2003
Publication date： Oct. 14, 2004
Summary：

【課題】複数のパターン領域を有するマスクを電子ビームで走査して露光を行う電子ビーム露光装置において、高精度の露光パターンを得られるようにする。【解決手段】梁36により区分された複数のパターン領域34A-34Dを有するマスク30と、マスクに梁の幅より大きな電子ビーム15を照射し、電子ビームを各パターン領域34A-34Dの開口パターンで整形し、整形した電子ビームを試料に照射する電子光学系12,20とを備える電子ビーム露光装置であって、マスク30の電子ビームの入射側に設けられ、複数のパターン領域の少なくとも一部の領域を電子ビームが入射しないように遮蔽する遮蔽機構70A-70Dを備える。【選択図】 図6

Claim (excerpt)：

梁により区分された複数のパターン領域を有するマスクと、 前記マスクに前記梁の幅より直径の大きな電子ビームを照射し、前記電子ビームを各パターン領域の開口パターンで整形し、整形した電子ビームを試料に照射する電子光学系とを備える電子ビーム露光装置であって、 前記マスクの前記電子ビームの入射側に設けられ、前記複数のパターン領域の少なくとも一部の領域を前記電子ビームが入射しないように遮蔽する遮蔽機構を備えることを特徴とする電子ビーム露光装置。

IPC (5)：

H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01J37/09 ,  H01J37/147 ,  H01J37/305

FI (7)：

H01L21/30 541B ,  G03F7/20 504 ,  G03F7/20 521 ,  H01J37/09 A ,  H01J37/147 C ,  H01J37/305 B ,  H01L21/30 541S

F-Term (12)：

2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  5C033BB05 ,  5C033GG03 ,  5C034BB03 ,  5C034BB04 ,  5C034BB05 ,  5F056AA06 ,  5F056AA22 ,  5F056CB05 ,  5F056CB40