Pat
J-GLOBAL ID:200903004101031781
加熱調理装置内室を洗浄するための装置と方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
中島 淳 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001112583
Publication number (International publication number):2002013738
Application date: Apr. 11, 2001
Publication date: Jan. 18, 2002
Summary:
【要約】【課題】 洗浄のために加熱調理装置内室に入れられ洗浄後再び取り出さなければならない部品を低減することによって、および必要な洗浄剤、すすぎ剤等の量を低減することによって、装置と方法を改良する。【解決手段】 本発明は、加熱調理室1と、空気案内板3によって加熱調理室から分離されたファン室2とを備え、このファン室内に、加熱調理室1とファン室2内に送出流を発生するためのファンロータ4が配置され、洗浄剤、すすぎ剤、清澄すすぎ剤、脱灰剤、水およびまたはその類似物のような少なくとも1つの液体20を噴霧するための少なくとも1個の噴霧ノズル10がファンロータの方向を向いている、加熱調理装置内室を洗浄するための装置と方法に関する。この場合、少なくとも1個の噴霧ノズル10の噴流21はファン室2内でファンロータ4の送出流と略反対の方向に向けられている。
Claim 1:
加熱調理室(1)と、空気案内板(3)によって加熱調理室(1)から分離されたファン室(2)とを備え、このファン室内に、加熱調理室(1)とファン室(2)内に送出流を発生するためのファンロータ(4)が配置され、洗浄剤、すすぎ剤、清澄すすぎ剤、脱灰剤、水およびまたはその類似物のような少なくとも1つの液体(20)を噴霧するための少なくとも1個の噴霧ノズル(10)がファンロータ(4)の方向を向いている、加熱調理装置内室を洗浄するための装置において、少なくとも1個の噴霧ノズル(10)の噴流(21)がファン室(2)内でファンロータ(4)の送出流と略反対の方向に向けられていることを特徴とする装置。
IPC (4):
F24C 1/00 370
, B08B 3/02
, F24C 7/04
, F24C 14/00
FI (4):
F24C 1/00 370 Z
, B08B 3/02 H
, F24C 7/04 A
, F24C 14/00 Z
F-Term (13):
3B201AA47
, 3B201AB53
, 3B201BB23
, 3B201BB82
, 3B201BB90
, 3B201BB92
, 3B201BB94
, 3B201CC01
, 3B201CD22
, 3B201CD43
, 3L087AA01
, 3L087AC07
, 3L087DA09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
-
特許第652405号
-
コンベクションオーブン
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-353907
Applicant:東京瓦斯株式会社
Cited by examiner (3)
-
特許第652405号
-
特許第652405号
-
コンベクションオーブン
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-353907
Applicant:東京瓦斯株式会社
Return to Previous Page