フォトレジスト膜除去装置

Inventor：
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (1)：岩見谷周志
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002023323
Publication number (International publication number)：2003224064
Application date： Jan. 31, 2002
Publication date： Aug. 08, 2003
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】オゾン消費量をほとんど増加させることが無く処理液の繰り返し使用が可能であるフォトレジスト除去装置を提供する。【解決手段】複数枚の基板の表面のフォトレジスト膜を同時に除去する装置であって、オゾン溶解性で、オゾンとの反応性が少ない有機溶剤からなる液相を収容する槽6、開放下端部を有し、高濃度オゾンガスが充満されるフード2、前記複数枚の基板を載置し得る構造としたカセット3、カセットを上下方向に移動させることができ、かつ、カセットとフードとを水平方向に相対移動させることができる機構を有する。前記フード2は、槽6内に前記有機溶剤が満たされた際に、フードの開放下端部が前記槽内の液相中に浸漬するように配置されており、更に、前記カセット3に載置された複数枚の基板の全体が、槽内の液相中に浸漬され、かつフード内の高濃度オゾンガスからなる気相区域に侵入できるように構成する。

Claim 1：

複数枚の基板の表面のフォトレジスト膜を同時に除去する装置であって、(A)オゾン溶解性で、オゾンとの反応性が少ない有機溶剤からなる液相を収容する槽、(B)開放下端部を有し、高濃度オゾンガスが充満されるフード、(C)前記複数枚の基板を、水平面に対して80〜90度の角度で、かつ、所定の一定間隔で載置し得る構造としたカセットおよび(D)カセットを上下方向に移動させることができ、かつ、カセットとフードとを水平方向に相対移動させることができる機構を有し、前記(B)のフードは、前記(A)の槽内に前記有機溶剤が満たされた際に、前記(B)のフードの開放下端部が前記(A)の槽内の液相中に浸漬するように配置されており、更に、前記(C)のカセットに載置された複数枚の基板の全体が、前記(A)の槽内の液相中に浸漬され、かつ、前記(B)のフード内の高濃度オゾンガスからなる気相区域に侵入できるように構成されていることを特徴とするフォトレジスト膜除去装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G03F 7/42 , H01L 21/304 645 , H01L 21/304 647

FI (4)：

G03F 7/42 , H01L 21/304 645 B , H01L 21/304 647 A , H01L 21/30 572 B

F-Term (4)：

2H096AA25 , 2H096LA02 , 5F046MA02 , 5F046MA05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

フォトレジスト膜除去方法およびそのための装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-321876 Applicant：三菱電機株式会社, 島田理化工業株式会社

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