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J-GLOBAL ID：200903004148816590

光集積回路およびその製造方法

Inventor： 尾上 篤
Applicant, Patent owner： パイオニア株式会社
Agent (1)： 石川 泰男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001077824
Publication number (International publication number)：2002277656
Application date： Mar. 19, 2001
Publication date： Sep. 25, 2002
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 簡単かつ安価に、光信号の散乱損失を低減することが可能な光集積回路およびその製造方法を提供する。【解決手段】 基板上2に形成された光検出部3と、前記基板の一主面上の前記光検出部が形成された部分以外に形成された少なくとも1層以上の遮光膜層5と、前記遮光膜層を被覆して形成された少なくとも2層以上の絶縁膜層4,6と、前記光検出部および前記絶縁膜層上に連続的に形成されたクラッド層7と、前記クラッド層上に形成された光導波路層8と、を備えた光集積回路において、前記絶縁膜層は、前記光検出部へ向かう領域において、階段上の複数の段差を形成しているように構成する。

Claim (excerpt)：

基板上に形成された光検出部と、前記基板の一主面上の前記光検出部が形成された部分以外に形成された少なくとも1層以上の遮光膜層と、前記遮光膜層を被覆して形成された少なくとも2層以上の絶縁膜層と、前記光検出部および前記絶縁膜層上に連続的に形成されたクラッド層と、前記クラッド層上に形成された光導波路層と、を備えた光集積回路において、前記クラッド層は、前記光検出部へ向かう領域において、滑らかな斜面に形成されていることを特徴とする光集積回路。

IPC (2)：

G02B 6/122 ,  H01L 31/0232

FI (2)：

G02B 6/12 B ,  H01L 31/02 D

F-Term (11)：

2H047KA04 ,  2H047KA13 ,  2H047MA07 ,  2H047PA01 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA32 ,  5F088AB03 ,  5F088BB01 ,  5F088GA03 ,  5F088JA14