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J-GLOBAL ID:200903004158931363
半導体受光素子
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
杉村 興作 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001266930
Publication number (International publication number):2003046111
Application date: Sep. 04, 2001
Publication date: Feb. 14, 2003
Summary:
【要約】【課題】暗電流を低減し、高い検出感度を有する半導体受光素子を提供する。【解決手段】半導体発光素子20を構成する下地層12はAlを含み、転位密度が1011/cm2以下の窒化物半導体から構成する。また、n型導電層13及びp型導電層15を前記窒化物半導体よりも少ない含有量でAlを含み、転位密度が1010/cm2以下の窒化物半導体から構成する。さらに、受光層14を同じく前記窒化物半導体よりも少ない含有量でAlを含み、転位密度が1010/cm2以下の窒化物半導体から構成する。
Claim (excerpt):
所定の基板上において、窒化物半導体からなる下地層と、窒化物半導体層群を含む受光素子構造とを具える半導体受光素子であって、前記下地層を構成する前記窒化物半導体は、少なくともAlを含むとともに、転位密度が1011/cm2以下であり、前記受光素子構造を構成する前記窒化物半導体層群は、前記下地層を構成する前記窒化物半導体よりも少ない含有量でAlを含むとともに、転位密度が1010/cm2以下であることを特徴とする、半導体受光素子。
F-Term (9):
5F049MA03
, 5F049MA05
, 5F049MA13
, 5F049MB07
, 5F049NA01
, 5F049PA04
, 5F049QA02
, 5F049QA18
, 5F049SS01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (19)
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特開昭61-007621
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受光素子、火炎センサ及び受光素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-319531
Applicant:大阪瓦斯株式会社
-
特開平3-203388
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半導体発光素子及びその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-219179
Applicant:日本電信電話株式会社
-
半導体の製造方法および該方法により製造した半導体素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-231057
Applicant:学校法人名城大学, 日本学術振興会
-
窒化物半導体デバイス及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-101217
Applicant:大阪瓦斯株式会社
-
半導体受光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-265506
Applicant:三菱電線工業株式会社, 株式会社ニコン
-
電極形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-302540
Applicant:大阪瓦斯株式会社
-
半導体発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-217875
Applicant:株式会社東芝
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3-5族化合物半導体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-307283
Applicant:住友化学工業株式会社
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半導体素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-193085
Applicant:株式会社東芝
-
半導体素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-030652
Applicant:日本電信電話株式会社
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特許第3626423号
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窒化物膜の製造方法
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Application number:特願2001-053188
Applicant:日本碍子株式会社
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フォトニックデバイス用基板およびその製造方法
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Application number:特願2001-114067
Applicant:日本碍子株式会社
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III族窒化物膜及びIII族窒化物多層膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-266810
Applicant:日本碍子株式会社
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半導体素子用基板、半導体素子の製造方法及び半導体素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-225122
Applicant:静岡大学長
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火炎センサ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-088265
Applicant:大阪瓦斯株式会社
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窒化物半導体の成長方法及び窒化物半導体素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-080288
Applicant:日亜化学工業株式会社
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