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J-GLOBAL ID：200903004161754200

混合ガスのカロリー制御装置

Inventor： 川崎 弘
Applicant, Patent owner： 住友金属工業株式会社
Agent (1)： 湯浅 恭三 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993332830
Publication number (International publication number)：1995191758
Application date： Dec. 27, 1993
Publication date： Jul. 28, 1995
Summary：

【要約】【目的】 燃料ガス及び空気等の混合ガスのカロリー制御装置において、低流量領域の流量制御精度を向上してカロリー制御精度を向上する。【構成】 広測定レンジ流量計4A’の測定値QA0が所定値Q1以下の低流量領域において、流量調節計6Aが制御弁5Aを閉鎖制御し流量調節計6aが制御弁5aを出力すべき混合ガス中のガスの流量QAに応じて開制御し、供給源1Aからのガスを小容量配管3aのみを介して供給する。Q1以上の領域において、制御弁5aを流量Q1となるように保持し制御弁5Aを流量QA-Q1となるように制御し、大容量及び小容量配管3A、3aの両方からガスを供給する。流量計4A’、4aの測定値QA0、Qa1は比率計13AB、13abを介して流量調節計6B、6bに供給され、ブロワー1Bからの空気の流量が混合比率(空気/ガス)に応じた流量となるように制御弁5B、5bを制御する。流量制御されたガスと空気がミキサー7ab、7ABで混合されバーナーに供給される。低流量領域で低精度の広測定レンジ流量計を該領域の制御に用いていないのでガスの流量制御精度が向上する。

Claim (excerpt)：

少なくとも2種類のガスの流量をそれぞれ制御しこれらのガスを混合することによって、該混合ガスのカロリーを制御するためのカロリー制御装置において、第1のガスを分配して供給するための大容量の第1の配管及び小容量の第2の配管と、第2のガスを分配して供給するための大容量の第3の配管と小容量の第4の配管と、第1の配管及び第2の配管にそれぞれ介在され、第1のガスの流量を制御するための第1及び第2の制御弁と、第3の配管及び第4の配管にそれぞれ介在され、第2のガスの流量を制御するための第3及び第4の制御弁と、第1、第2、第3及び第4の制御弁を介して第1、第2、第3及び第4の配管から供給された第1及び第2のガスを混合して出力配管に供給するためのミキサー手段と、第1及び第2の配管に流れる第1のガスの流量を測定するための第1及び第2の流量計と、第3及び第4の配管に流れる第2のガスの流量を測定するための第3及び第4の流量計と、出力配管に流れる混合ガスの流量を測定するための第5の流量計と、第1、第2、第3、第4及び第5の流量計の測定値、出力配管から供給されるべき混合ガスの流量、並びに該混合ガスに対する第1及び第2のガスの第1及び第2の比率にしたがって、第1、第2、第3及び第4の制御弁の開度を制御するための制御手段であって、第5の流量計の測定値が所定値以下の場合、第1及び第3の制御弁を閉じた状態に制御し、かつ第2及び第4の流量計の測定値が、出力配管から供給されるべき混合ガスの流量に第1及び第2の比率を乗算した流量値となるように、第2及び第4の制御弁を制御し、第5の流量計の測定値が所定値以上の場合、第2及び第4の制御弁を閉じた状態に制御し、かつ第1及び第3の流量計の測定値が、出力配管から供給されるべき混合ガスの流量に第1及び第2の比率を乗算した流量値となるように、第1及び第3の制御弁を制御するよう構成されている制御手段とを備えていることを特徴とするカロリー制御装置。

IPC (3)：

G05D 11/13 ,  F23N 1/00 115 ,  F23N 1/00 116