Pat
J-GLOBAL ID:200903004166444854
半導体レーザ、光源装置、走査光学装置、画像形成装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
中川 裕幸
, 反町 行良
, 飛田 高介
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004373062
Publication number (International publication number):2006179769
Application date: Dec. 24, 2004
Publication date: Jul. 06, 2006
Summary:
【課題】 本出願は、電子写真装置の部品点数増加、戻り光やフレア光起因による画質の劣化及び破壊光出力に対するマージン低下を抑制することができ、主放射光(出射光)をモニタして駆動電流を制御する半導体レーザを提供することを目的とする。【解決手段】 本発明に係る半導体レーザの代表的な構成は、レーザ光を出射するレーザチップ54と、レーザチップ54から出射された出射光Laを受光して電流に変換し、レーザチップ54の発光状態をモニタするフォトダイオード57と、レーザチップ54からの出射光Laを切り取る窓59が設けられ、レーザチップ54とフォトダイオード57をカバーするウィンドウキャップ58と、を有し、フォトダイオード57を、窓59を通過するレーザ光Lcの通過領域外かつ、フォトダイオード57で反射した一次反射光Ldがウィンドウキャップ58で遮光可能な位置に配置したことを特徴とする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
レーザ光を出射するレーザチップと、
該レーザチップから出射された出射光を受光して電流に変換し、前記レーザチップの発光状態をモニタするフォトダイオードと、
前記レーザチップからの出射光を切り取る窓が設けられ、前記レーザチップと前記フォトダイオードをカバーするウィンドウキャップと、を有し、
前記フォトダイオードを、前記窓を通過する出射光の通過領域外かつ、フォトダイオードで反射した一次反射光が前記ウィンドウキャップで遮光可能な位置に配置したことを特徴とする半導体レーザ。
IPC (3):
H01S 5/022
, H01L 31/12
, B41J 2/44
FI (3):
H01S5/022
, H01L31/12 H
, B41J3/00 D
F-Term (31):
2C362AA03
, 2C362AA11
, 2C362AA43
, 2C362AA53
, 5F089BA05
, 5F089BB20
, 5F089BC11
, 5F089BC25
, 5F089CA04
, 5F089CA06
, 5F089CA15
, 5F089CA16
, 5F089DA11
, 5F089GA01
, 5F173MA06
, 5F173MB01
, 5F173MC02
, 5F173MC16
, 5F173MC17
, 5F173MC30
, 5F173ME15
, 5F173ME22
, 5F173ME72
, 5F173ME88
, 5F173MF03
, 5F173MF39
, 5F173MF40
, 5F173SC07
, 5F173SE01
, 5F173SF03
, 5F173SF32
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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面発光レーザの光量モニター装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-138181
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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半導体レーザおよびそれを用いた光送信モジュール
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-079020
Applicant:松下電器産業株式会社
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