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J-GLOBAL ID：200903004180227173

高シリカ珪酸塩系分子篩の合成方法

Inventor： 山本 東 ,  高橋 章 ,  平松 拓也 ,  鈴木 憲次
Applicant, Patent owner： 日本碍子株式会社
Agent (1)： 渡邉 一平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997270960
Publication number (International publication number)：1998259018
Application date： Oct. 03, 1997
Publication date： Sep. 29, 1998
Summary：

【要約】【課題】 脱Al操作をすることなしに、Al含有量の少ないゼオライトを直接合成することにより、高い耐熱性及び耐水熱性を発現させ、且つ合成プロセスの簡易化及び収率の向上に寄与することができる高シリカ珪酸塩系分子篩の合成方法を提供する。【解決手段】 Al,H,OおよびSi以外の元素として少なくともFeを含み、Si/Feモル比が50以上、かつSi/Feモル比が80以下(細孔構造がβ型の場合には、Si/Feモル比が45以下)である原料を用いて水熱合成後、酸化雰囲気下300°C以上で熱処理したものである。

Claim (excerpt)：

Al,H,OおよびSi以外の元素として少なくともFeを含み、Si/Alモル比が50以上、かつSi/Feモル比が80以下である原料を用いて水熱合成後、酸化雰囲気下300°C以上で熱処理することを特徴とする高シリカ珪酸塩系分子篩の合成方法。

IPC (3)：

C01B 39/06 ,  B01D 53/02 ,  B01J 20/18

FI (3)：

C01B 39/06 ,  B01D 53/02 Z ,  B01J 20/18 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-275017
  
• 特開昭59-116120