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J-GLOBAL ID:200903004219526793

プラズマディスプレイパネルの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998051561
Publication number (International publication number):1999231524
Application date: Feb. 17, 1998
Publication date: Aug. 27, 1999
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 現像処理においてアンダーカットを防ぎ、各構成要素のパターンを高い効率で確実に、高精細に製造することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供すること。【解決手段】 特定の光開始剤を有するレジスト膜31を用い、二層レジスト法により無機パターンを有するパネル材料を形成する。
Claim (excerpt):
支持フィルム上に形成された無機粉体分散ペースト層を基板上に転写し、当該無機粉体分散ペースト層上に、式(1)で表される化合物を含有するレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光処理して、レジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、無機粉体分散ペースト層をエッチング処理してレジストパターンに対応する無機粉体分散ペースト層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含む方法により、無機パターンを有するパネル材料を形成することを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの製造方法。
IPC (5):
G03F 7/029 ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02 ,  H01J 17/49
FI (5):
G03F 7/029 ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 11/02 B ,  H01J 17/49 Z
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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