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J-GLOBAL ID:200903004219787104

ダイヤモンドの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高橋 光男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992076438
Publication number (International publication number):1993279183
Application date: Mar. 31, 1992
Publication date: Oct. 26, 1993
Summary:
【要約】【構成】反応容器1の上部に設置した低圧水銀ランプ2の光でガス導入口3から導入した反応ガスを光分解し、ヒーター5上に設置したSi基板上6上にダイヤモンド膜を成膜する。排気口4は排気するためのものである。成膜は次の順序で行う。まず、ヒーター上にSi基板を設置し、ヒーターで基板温度を500°Cに保持した後、低圧水銀ランプを点灯する。続いてガス導入口からテトラクロロエチレンと水素の混合ガスを導入し、反応容器内のガス圧を所定の圧力にし、基板上にダイヤモンド膜を生成する。【効果】格子欠陥の少ない高品質ダイヤモンド膜を高い成膜速度で製造することが可能になる。
Claim (excerpt):
少なくともテトラクロロエチレンもしくはトリクロロエチレンのいずれかを0.5%以上含む有機化合物あるいは希ガスとの混合ガスより成る反応ガスに紫外線を照射し、光分解させて、ダイヤモンドを合成することを特徴とするダイヤモンドの製造方法。
IPC (2):
C30B 29/04 ,  C30B 25/02

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