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J-GLOBAL ID：200903004221894910

ジスアゾ顔料、その製造方法及び印刷インキ組成物

Inventor：
佐藤 昭生

About 佐藤 昭生


Applicant, Patent owner：
東洋インキ製造株式会社

About 東洋インキ製造株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001280885
Publication number (International publication number)：2003082253
Application date： Sep. 17, 2001
Publication date： Mar. 19, 2003
Summary：
【要約】【課題】従来のジスアゾ顔料に比較して短時間でフラッシングが完了でき、さらに透明で且つ流動性に優れた印刷インキを提供する。【解決手段】 3,3’-ジクロロベンジジンのテトラゾ化物とアセトアセトアニリド系化合物をカップリングさせてなるジスアゾ顔料において、該アセトアセトアニリド系化合物が、アセトアセトアニリド80〜99モル%、極性基含有アセトアセトアニリド化合物0.5〜10モル%およびアルコキシ基含有アセトアセトアニリド化合物0.5〜10モル%からなることを特徴とするジスアゾ顔料。
Claim 1：
3,3’-ジクロロベンジジンのテトラゾ化物とアセトアセトアニリド系化合物をカップリングさせてなるジスアゾ顔料において、該アセトアセトアニリド系化合物が、アセトアセトアニリド80〜99モル%、下記式(1)で示される極性基含有アセトアセトアニリド化合物0.5〜10モル%および下記式(2)で示されるアルコキシ基含有アセトアセトアニリド化合物0.5〜10モル%からなることを特徴とするジスアゾ顔料。式(1)CH3COCH2CONH-X(式中、Xはカルボン酸基、スルホン酸基およびこれらの金属塩からなる群から選ばれる同一又は異なる1〜4個の置換基を有するフェニル基(該フェニル基は、置換可能な位置がメチル基、メトキシ基、水酸基または塩素原子で置換されていてもよい。)を示す。)式(2)CH3COCH2CONH-Y(式中、Yは炭素数2〜4のアルコキシ基を有するフェニル基(該フェニル基は、置換可能な位置がメチル基、メトキシ基、水酸基または塩素原子で置換されていてもよい。)を示す。)
IPC (2)：
C09B 35/20 CLA ,  C09D 11/02
FI (2)：
C09B 35/20 CLA ,  C09D 11/02
F-Term (11)：
4J039AB04 ,  4J039AD18 ,  4J039AE02 ,  4J039AE06 ,  4J039BC16 ,  4J039BC41 ,  4J039BE01 ,  4J039BE12 ,  4J039CA07 ,  4J039EA33 ,  4J039EA48
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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