Pat

J-GLOBAL ID：200903004233682803

溶媒可溶性ポリイミドの製造方法

Inventor： 大場 正幸 ,  真竹 茂
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992120764
Publication number (International publication number)：1993310933
Application date： May. 13, 1992
Publication date： Nov. 22, 1993
Summary：

【要約】【目的】ポリイミド膜パターンを形成するための感光性樹脂組成物に好適な溶媒可溶性ポリイミドの製造方法であって、ポリマー溶液を得た後に特に精製を行う必要がなく、得られた溶液をそのまま組成物の調製に供することを可能にする方法を提供すること。【構成】下記反復単位を有するポリアミド酸およびジシクロヘキシルカルボジイミドを含有する溶液中で、該ポリアミド酸の脱水反応によりポリイミドを得ることを特徴とする。【化1】(式中、R1 は4価の有機基を、R2 は2価の有機基を夫々表す。)

Claim (excerpt)：

下記反復単位(1)を有するポリアミド酸およびジシクロヘキシルカルボジイミドを含有する溶液中で、該ポリアミド酸の脱水反応によりポリイミドを得ることを特徴とする溶媒可溶性ポリイミドの製造方法。【化1】(式中、R1 は4価の有機基を、R2 は芳香環に結合した少なくとも1個の水酸基を有する2価の有機基を夫々表す。)

IPC (4)：

C08G 73/10 NTF ,  H01L 21/312 ,  H01L 23/29 ,  H01L 23/31