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J-GLOBAL ID：200903004240287049

オゾン処理装置

Inventor： 下田 亨志 ,  菊池 辰男
Applicant, Patent owner： 住友精密工業株式会社
Agent (1)： 村上 智司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001284861
Publication number (International publication number)：2003092289
Application date： Sep. 19, 2001
Publication date： Mar. 28, 2003
Summary：

【要約】【課題】高濃度オゾンガスを基板表面に導いて、十分な膜厚の酸化膜を基板表面に生成し得るオゾン処理装置を提供する。【解決手段】オゾン処理装置は、基板が載置される載置台と、載置台上の基板を加熱する加熱手段と、載置台上の基板に対し、オゾンを含んだ処理ガスを供給するガス供給手段とを備える。ガス供給手段は、冷却流体が流通する冷却流体管路22d、及び処理ガスが流通する処理ガス管路22cを備えた多重管22a,22bからなる供給管22と、処理ガス管路22cに連通し、供給管22からK基板に向けて延設された吐出管23とを備える。また、オゾン処理装置は、冷却流体管路22d内に冷却流体を供給して、これを循環させる冷却流体循環手段を備える。

Claim (excerpt)：

基板が載置される載置台と、前記載置台上の基板を加熱する加熱手段と、前記載置台上の基板に対し、少なくともオゾンを含んだ処理ガスを供給するガス供給手段とを備えて構成されるオゾン処理装置において、前記ガス供給手段を、少なくとも冷却流体が流通する冷却流体管路、及び前記処理ガスが流通する処理ガス管路を備えた多重管からなる供給管と、前記処理ガス管路に連通する流路を有し、前記供給管から前記基板に向けて延設されて、前記処理ガス管路内の処理ガスを前記基板に向けて案内し吐出する導気部材とを設けて構成するとともに、前記冷却流体管路内に冷却流体を供給して、これを循環させる冷却流体循環手段を設けて構成したことを特徴とするオゾン処理装置。

F-Term (17)：

5F045AB32 ,  5F045AC09 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AD09 ,  5F045AF07 ,  5F045BB01 ,  5F045BB08 ,  5F045CA15 ,  5F045DP04 ,  5F045EB02 ,  5F045EC09 ,  5F045EE20 ,  5F045EF01 ,  5F045EF08 ,  5F045EF10 ,  5F045EJ09