Pat

J-GLOBAL ID：200903004272579076

レーザー露光装置

Inventor： 勝田 伸一 ,  石塚 賢一 ,  大村 直樹
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (1)： 京本 直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992240238
Publication number (International publication number)：1994215408
Application date： Sep. 09, 1992
Publication date： Aug. 05, 1994
Summary：

【要約】【目的】レーザー露光により感光材料に変調された微小なパターンを記録した原盤から複数の成形レプリカをする際の形成ピット幅を細くする。【構成】超解像用のマスク22は、コリメーターレンズ16と光学ヘッド18との間にビームに対し垂直になるように設置する。また、ストライプ型のマスクは、ビームが照射される原盤に対し半径方向に複数のサイドローブとメインビームが並ぶように設置する。マスクパターンは、サイドローブのメインビーム強度に対する相対強度が40%以下であり、ストライプ型の場合には、複数のサイドローブとメインビームが半径方向に並ぶような構成である。

Claim (excerpt)：

感光性膜を設けた円盤を回転させながら対物レンズで集束させたレーザービームにて露光を行う光ディスク作成用のレーザー露光装置において、前記対物レンズにレーザの平行光を供給するコリメーターレンズと前記対物レンズとの間にストライプ状または円形状の遮光板を設置したことを特徴とするレーザー露光装置。

IPC (3)：

G11B 7/135 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平3-209644
  
• 特開平2-012625
  
• 特開平2-091829
  
• 特開平2-052311
  
• 特開昭63-287818