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J-GLOBAL ID：200903004289228510

毛髪処理剤

Inventor： 大宅 亨 ,  岡本 好弘
Applicant, Patent owner： サンスター株式会社
Agent (1)： 青山 葆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992215974
Publication number (International publication number)：1994065030
Application date： Aug. 13, 1992
Publication date： Mar. 08, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ヘアリンス、ヘアトリートメント等の使用後に洗い流すタイプの、毛髪に与える刺激の少ない、かつ、コンディショニング効果のすぐれた毛髪処理剤の提供。【構成】 両性水溶性高分子物質を用いない、第4級アンモニウム塩を配合した毛髪処理剤であって、平均分子量500〜8000のコラーゲン蛋白加水分解物のアシル化物またはその塩から選ばれる少なくとも1種のアニオン性水溶性高分子物質(A)と、ポリグリコール/ポリアミン縮合物またはポリグリコール/ポリアミン/アルキルおよびアルキレンアミン縮合物から選ばれる少なくとも1種のカチオン性水溶性高分子物質(B)とを含有し、該アニオン性水溶性高分子物質と該カチオン性水溶性高分子物質の配合比A:Bが4:1〜1:4である、両性水溶性高分子物質不含の毛髪処理剤を開示する。

Claim (excerpt)：

両性水溶性高分子物質を用いない、第4級アンモニウム塩を配合した毛髪処理剤であって、平均分子量500〜8000のコラーゲン蛋白加水分解物のアシル化物またはその塩から選ばれる少なくとも1種のアニオン性水溶性高分子物質(A)と、ポリグリコール/ポリアミン縮合物またはポリグリコール/ポリアミン/アルキルおよびアルキレンアミン縮合物から選ばれる少なくとも1種のカチオン性水溶性高分子物質(B)とを含有し、該アニオン性水溶性高分子物質と該カチオン性水溶性高分子物質の配合比A:Bが4:1〜1:4であることを特徴とする両性水溶性高分子物質不含の毛髪処理剤。