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J-GLOBAL ID：200903004298371821

公開鍵暗号方法および装置

Inventor： 宝木 和夫 ,  車谷 博之
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996290525
Publication number (International publication number)：1998133576
Application date： Oct. 31, 1996
Publication date： May. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】安全性が高く、ディジタル署名の長さを短くでき、ディジタル署名の長さがシステム鍵の位数の長さに依存しない公開鍵暗号方法および装置を得る。【解決手段】メッセージMが与えられたときに、(1)ハッシュ関数Hを用いて、 e=H(M)を満たすeを求める処理と、(2)乱数を変換して得られる数値xに対して、ハッシュ関数Hの出力値よりも短い出力値を出力するようなハッシュ関数hを用いて、 r=h(x)を満たすrを求める処理、を含む公開鍵暗号方法によりディジタル署名を生成する。

Claim (excerpt)：

与えられたメッセージMに対し、当該メッセージに押印したことを電子的に認証するディジタル署名を生成、あるいは検証するに当たり、ハッシュ関数Hを用いて、e=H(M)を満たすeを求める処理と、乱数を変換して得られる数値xに対して、前記ハッシュ関数Hの出力値よりも短い出力値を出力するハッシュ関数hを用いて、r=h(x)を満たすrを求める処理とを含むことを特徴とする公開鍵暗号方法。

IPC (3)：

G09C 1/00 640 ,  G09C 1/00 620 ,  G09C 1/00 650

FI (3)：

G09C 1/00 640 B ,  G09C 1/00 620 Z ,  G09C 1/00 650 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 電子署名システム及び電子署名方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-241859   Applicant：株式会社東芝