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J-GLOBAL ID:200903004311686756

データ処理装置、データ処理方法、およびプログラム

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 坂口 博 ,  市位 嘉宏 ,  上野 剛史 ,  太佐 種一 ,  間山 進也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006330025
Publication number (International publication number):2008142137
Application date: Dec. 06, 2006
Publication date: Jun. 26, 2008
Summary:
【課題】3次元画像を位置合わせするためのデータ処理装置、データ処理方法、およびプログラムを提供すること。【解決手段】データ処理装置10は、基準イメージ40の解像度を低解像度化するダウン・サンプル処理手段44〜48と、ダウン・サンプル処理手段44〜48により低解像度化された基準イメージと、低解像度化された基準イメージと同じく低解像度化された対象イメージとの間のレジストレーションを行ない、レジストレーションを行う第1レジストレータ手段(50、52)と、第1レジストレータ手段52が出力した線形変換パラメータを初期値として使用し低解像度化された基準イメージおよび低解像度化された対象イメージのレジストレーションを行う第2レジストレータ手段(54、56)とを備え、相互情報量の計算に使用する画素データを連続アクセスが可能なようにメイン・メモリに格納し、ローカル・メモリにフェッチして実行している。【選択図】図2
Claim (excerpt):
3次元画像の基準イメージと3次元画像の対象イメージとの間の相互情報量を使用した位置合わせを行うデータ処理装置であって、前記データ処理装置は、 前記基準イメージの解像度を逐次的に低解像度化するダウン・サンプル手段と、 前記ダウン・サンプル手段により低解像度化された基準イメージと、前記低解像度化された基準イメージと同じく低解像度化された対象イメージとの間のレジストレーションを行ない、レジストレーションのための線形変換パラメータを出力する第1レジストレータ手段と、 前記第1レジストレータ手段が出力した前記線形変換パラメータを初期値として使用し、それぞれ1ステージ高い解像度を有する前記低解像度化された基準イメージおよび前記低解像度化された対象イメージのレジストレーションを行ない前記線形変換パラメータのレジストレーション精度を更新する第2レジストレータ手段と 前記低解像度化された基準イメージのサンプリング割合が設定値以上の場合には、前記第1レジストレータ手段を使用し、前記サンプリング割合が前記設定値に達しない場合には、前記第2レジストレータ手段を使用してレジストレーションを実行する手段と を備え、前記第1レジストレータ手段および前記第2レジストレータ手段は、前記相互情報量の計算に使用する前記基準イメージの画素データおよび前記対象イメージの画素データのセットをブロック単位で連続アクセスできるようにメイン・メモリ上に格納し、ローカル・メモリにブロック単位でフェッチして前記相互情報量の計算を実行する データ処理装置。
IPC (5):
A61B 6/03 ,  G06T 17/40 ,  A61B 6/00 ,  A61B 5/055 ,  G06T 7/00
FI (5):
A61B6/03 360B ,  G06T17/40 B ,  A61B6/00 350A ,  A61B5/05 380 ,  G06T7/00 300B
F-Term (31):
4C093AA22 ,  4C093AA26 ,  4C093CA29 ,  4C093FD04 ,  4C093FF13 ,  4C093FF37 ,  4C093FF42 ,  4C093FH02 ,  4C096AA20 ,  4C096AB27 ,  4C096AD14 ,  4C096AD24 ,  4C096DB09 ,  4C096DC14 ,  4C096DC21 ,  4C096DC22 ,  4C096DC28 ,  4C096DC33 ,  5B050BA03 ,  5B050BA06 ,  5B050CA07 ,  5B050EA17 ,  5B050EA26 ,  5B050FA02 ,  5L096BA06 ,  5L096CA04 ,  5L096DA02 ,  5L096EA13 ,  5L096EA14 ,  5L096FA22 ,  5L096JA13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2) Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
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